DLK系列快速低溫循環(huán)泵，是采取無氟環(huán)保壓縮機制冷的低溫液體循環(huán)設(shè)備。具有提供低溫液體、低溫水浴的作用。結(jié)合旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器，真空冷凍干燥箱、循環(huán)水式真空泵、紫外分光...

密閉水冷高溫循環(huán)器，是采用電加熱升溫的液體循環(huán)設(shè)備，可對外提供高溫的循環(huán)液體，廣泛應用于制藥、化工、石化等行業(yè)的反應釜裝置的加熱。

密閉水冷高溫循環(huán)器，是采用電加熱升溫的液體循環(huán)設(shè)備，可對外提供高溫的循環(huán)液體，廣泛應用于制藥、化工、石化等行業(yè)的反應釜裝置的加熱。

密閉水冷高溫循環(huán)器，是采用電加熱升溫的液體循環(huán)設(shè)備，可對外提供高溫的循環(huán)液體，廣泛應用于制藥、化工、石化等行業(yè)的反應釜裝置的加熱。

循環(huán)浴為各種需加熱的裝置提供熱源，可單獨使用、與旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、反應釜配套使用分為循環(huán)浴、風冷循環(huán)浴，根據(jù)需要可進行選擇。

循環(huán)浴為各種需加熱的裝置提供熱源，可單獨使用、與旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、反應釜配套使用分為循環(huán)浴、風冷循環(huán)浴，根據(jù)需要可進行選擇。

循環(huán)浴為各種需加熱的裝置提供熱源，可單獨使用、與旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、反應釜配套使用分為循環(huán)浴、風冷循環(huán)浴，根據(jù)需要可進行選擇。

循環(huán)浴為各種需加熱的裝置提供熱源，可單獨使用、與旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、反應釜配套使用分為循環(huán)浴、風冷循環(huán)浴，根據(jù)需要可進行選擇。

循環(huán)浴為各種需加熱的裝置提供熱源，可單獨使用、與旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、反應釜配套使用分為循環(huán)浴、風冷循環(huán)浴，根據(jù)需要可進行選擇。

循環(huán)浴為各種需加熱的裝置提供熱源，可單獨使用、與旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、反應釜配套使用分為循環(huán)浴、風冷循環(huán)浴，根據(jù)需要可進行選擇。

冷阱槽采用ANSI 304不銹鋼，可以用于水系和乙醇系實驗，配備玻璃冷凝器后，可應用于酸系和有機溶媒系實驗。

冷阱槽采用ANSI 304不銹鋼，可以用于水系和乙醇系實驗，配備玻璃冷凝器后，可應用于酸系和有機溶媒系實驗。

冷阱槽采用ANSI 304不銹鋼，可以用于水系和乙醇系實驗，配備玻璃冷凝器后，可應用于酸系和有機溶媒系實驗。

冷阱槽采用ANSI 304不銹鋼，可以用于水系和乙醇系實驗，配備玻璃冷凝器后，可應用于酸系和有機溶媒系實驗。

密閉制冷加熱循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

密閉制冷加熱循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

密閉制冷加熱循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

密閉制冷加熱循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

密閉制冷加熱循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。

密閉制冷加熱循環(huán)裝置能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設(shè)備的加熱和冷卻。