ALD系統(tǒng)應(yīng)用范圍再次升級(jí)

隨著NANO-MASTER*技術(shù)的ICP源的深入應(yīng)用，對(duì)于大面積的基片提供均勻高品質(zhì)的薄膜生長(zhǎng)得以實(shí)現(xiàn)。到目前為止，NANO-MASTER的ALD系統(tǒng)可以支持在任意尺寸的襯底上的擴(kuò)展，這給顯示和照明等領(lǐng)域帶來(lái)好消息。

此外，NANO-MASTER同時(shí)具備粉末處理能力的擴(kuò)展。這樣，NANO-MASTER系統(tǒng)已經(jīng)可以支持在任意尺寸和任意形狀的固體上進(jìn)行原子級(jí)生長(zhǎng)。在應(yīng)用選擇方面，我們支持熱ALD和PEALD系統(tǒng)的單獨(dú)應(yīng)用，同時(shí)也支持ALE/ALD雙系統(tǒng)、IBE/ALD雙系統(tǒng)、ALD/PECVD雙系統(tǒng)、ALD/IBAD雙系統(tǒng)等應(yīng)用，以及ALD跟其它NANO-MASTER任意系統(tǒng)組成的Cluster系統(tǒng)，可以實(shí)現(xiàn)多工序工藝在不間斷真空的情況下一步完成工藝。