等離子輔助MOCVD技術(shù)

NMC-4000（M）PAMOCVD系統(tǒng)概述：NANO-MASTER針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PA-MOCVD),該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓泡裝置(各帶獨(dú)立的冷卻槽)、加熱的氣體管路、950度樣品臺(tái)三個(gè)氣體環(huán)、淋浴式氣體分布的RF射頻等離子源以及工藝終端的N2沖洗、250l/sec渦輪分子泵及無(wú)油真空泵(5 x 10^-7Torr極限真空)、PC全自動(dòng)控制，*的安全互鎖。

目前，這項(xiàng)技術(shù)延伸到5個(gè)4"晶圓的立柜式獨(dú)立批處理系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以集成到集群配置中以滿足高產(chǎn)量的要求。

NMC-4000（M）PAMOCVD系統(tǒng)應(yīng)用：Green LED’s (GaN, InGaN, AlGaN, ...)

特點(diǎn)：

• 獨(dú)立系統(tǒng)
• 14"不銹鋼立方體腔體
• 1次在8"樣品臺(tái)上處理1個(gè)6"晶圓片或在12"樣品臺(tái)上處理5片4"片子
• 加熱的氣體管路
• RF等離子源，自動(dòng)調(diào)諧
• 淋浴頭氣體分布
• 1100°C的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)
• N2沖洗
• 手動(dòng)放置晶圓片

 Features：

• Stand Alone System
• 14" Stainless Steel Cube Chamber
• One 6" Wafer with 8" Platen or five 4" Wafers on 12" platen
• Heated Gas Lines
• RF Plasma Source with Auto Tuner
• Shower Head Gas Distribution
• 1100 °C Platen, Rotating
• N₂ Flush
• Manual wafer Loading and Unloading