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當(dāng)前位置:> 供求商機> EQS-二次離子質(zhì)譜儀
產(chǎn)地:英國Hiden公司
更新時間:2024-09-06 21:00:07
有效期:2024年9月6日 -- 2025年3月6日
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應(yīng)用:
· 靜態(tài) /動態(tài)SIMS
· 一般目的的表面分析
· 整體的前端離子源,便于RGA和 SNMS
· 兼容的離子槍/ FAB 槍
· 成分/污染物分析
· 深度分析
· 泄漏檢測
· 與Hiden SIMS 工作站兼容
特點:
· 高靈敏度脈沖離子計數(shù)檢測器,7個數(shù)量級的動態(tài)范圍
· SIMS 成像,分辨率在微米以下
· 光柵控制,增強深度分析能力
· 45°靜電扇形分析器, 掃描能量增量 0.05 eV/ 0.25eV FWHM.
· 所有能量范圍內(nèi),離子行程的小擾動,及恒定離子傳輸
· 差式泵3級過濾四極桿,質(zhì)量數(shù)范圍至2500amu
· 靈敏度高 / 穩(wěn)定的脈沖離子計數(shù)檢測器
· Penning規(guī)和互鎖裝置可提供過壓保護
· 通過RS232、RS485或Ethernet LAN,軟件 MASsoft控制
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