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更新時間:2023-07-05 10:37:30瀏覽次數(shù):260次
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立陶宛WOP的空間可變波片
消偏振補償器,偏振補償器,去偏振補償,一種增益介質(zhì)中去偏振補償?shù)姆椒?/span>
立陶宛WOP提供了一種解決去偏振損耗問題的新方案——去偏振補償器(消偏振補償器,偏振補償波片)。它是一個空間可變波片 (SVWP),在了解去偏振水平、其來源和放大的激光束參數(shù)的情況下制造。
這種方法比其他方法更有利,例如腔內(nèi)四分之一波片、腔內(nèi)法拉第旋轉(zhuǎn)器、具有兩個相同泵浦和中繼成像增益介質(zhì)的經(jīng)典去偏振補償布局,以及不同的晶體切割方向。
由于精確逐點刻寫的納米光柵的特殊性能,我們的偏振補償波片(英文名:Depolarization Compensator)靈活多變,可根據(jù)客戶需求進行廣泛調(diào)整。
WOP消偏振補償器(Depolarization Compensator)的優(yōu)勢
- 無吸收No absorption
- 非常低的散射Very low scattering
- 定制化、和連續(xù)的逐點模式continuous point by point patterns
- 最大功率提取可能性,不會造成光束質(zhì)量的額外下降
- 通過堆疊多個元件來靈活地補償不同量的去偏振
- 節(jié)省空間,易于操作
- 價格大幅降低
我們提出的去偏振補償方法——去偏振補償器(消偏振補償器,偏振補償波片,英文名:Depolarization Compensator)。與其他方法相比更有利,例如腔內(nèi)四分之一波片、腔內(nèi)法拉第旋轉(zhuǎn)器、具有兩個相同泵浦和中繼成像增益介質(zhì)的經(jīng)典去偏振補償布局,以及不同的晶體切割方向 。
與傳統(tǒng)的法拉第旋轉(zhuǎn)器相比,WOP空間可變波片(SVWP)的優(yōu)勢
- 空間可變波片 (SVWP) 的基板是熔融石英,與法拉第旋轉(zhuǎn)器相比,對激光輻射的體積吸收低,非線性折射率顯著降低,從而最大限度地減少了高強度激光中的熱效應(yīng)和非線性相互作用;
- SVWP元件緊湊(厚度為6毫米,直徑通常為25.4毫米),而法拉第轉(zhuǎn)子材料的長度通常至少為 20 毫米;
- 有可能補償高泵浦增益介質(zhì)中的去偏振,而使用四分之一波片的簡單方法則無法做到這一點;
- 它對對齊和特定配置不太敏感;
- 它非常實用,因為可以通過改變?nèi)肷浼す馐笮』蛟谕还鈱W(xué)布局中堆疊幾個 SVWP 來調(diào)整誘導(dǎo)/補償去偏振水平。
WOP偏振損耗問題的新方案——去偏振補償器(消偏振補償器)Depolarization Compensator
高功率激光器增益介質(zhì)中的熱效應(yīng)會產(chǎn)生可預(yù)測的軸對稱溫度梯度。溫度梯度在泵送晶體中產(chǎn)生機械應(yīng)力,從而導(dǎo)致誘導(dǎo)雙折射,由于溫度熱梯度的存在會導(dǎo)致增益介質(zhì)內(nèi)部的折射率分布發(fā)生變化,引起熱致退偏效應(yīng)。
如果激光系統(tǒng)包含偏振敏感元件(例如布儒斯特板、法拉第旋轉(zhuǎn)器),則產(chǎn)生的光學(xué)各向異性會導(dǎo)致顯著的功率損耗。立陶宛WOP 與 Ekspla共同努力,基于 Ekspla的發(fā)明 EP3712664 (A1),開發(fā)并驗證了解決去偏振損耗問題的解決方案——一種補償增益介質(zhì)中原始偏振失真的光學(xué)元件,偏振補償波片(消偏振補償器,英文名:Depolarization Compensator)。
研究了亞皮秒激光系統(tǒng),該系統(tǒng)具有基于光纖 CPA 的種子激光器 FemtoLux 30 ( Ekspla ) 和雙通端泵浦 Yb:YAG 晶體功率放大器。
該系統(tǒng)的主要創(chuàng)新之處在于使用專門設(shè)計的空間可變波片或 SVWP 應(yīng)用去偏振補償,這允許從這樣的放大器中提取幾乎最大的功率,而不會造成額外的光束質(zhì)量下降。
據(jù)我們所知,這種方法是除了他們應(yīng)用外。
去偏振補償器。左圖:快慢軸方向二維分布圖。右圖:延遲曲線。
以下是文獻資料:
使用消偏振補償器實現(xiàn)去偏振補償、熱致退偏效應(yīng)的一種補償方法
立陶宛WOP與Ekspla有限公司研究了一種亞皮秒激光系統(tǒng),采用光纖CPA的種子激光器FemtoLux 30和雙通端泵浦Yb:YAG晶體功率放大器。該系統(tǒng)的關(guān)鍵新穎之處在于使用一個特殊設(shè)計的空間可變波片(SVWP)進行去偏振補償,這允許從此類放大器提取幾乎最大功率,而不會導(dǎo)致額外的光束質(zhì)量下降。這種空間可變波片(SVWP)進行去偏振補償可稱為去偏振補償器。
Yb:YAG晶體是應(yīng)用于激光放大器的有效的Yb摻雜材料之一,具有高吸收和放大截面和高熱導(dǎo)率。雖然摻鐿Yb材料在被969 nm激光二極管泵浦時存在相當(dāng)小的量子缺陷,但如果激光系統(tǒng)中包含偏振敏感元件,則高泵浦增益介質(zhì)中的熱效應(yīng)會通過去偏振導(dǎo)致一定的功率損失。在高功率激光器的增益介質(zhì)中,熱效應(yīng)產(chǎn)生可預(yù)測的軸向?qū)ΨQ的溫度熱梯度。這些梯度在泵浦晶體中誘發(fā)機械應(yīng)力,導(dǎo)致折射率梯度分布和誘導(dǎo)雙折射。
雙折射軸向梯度場的徑向和切向方向,導(dǎo)致在放大器的輸入端形成初始偏早光的常見“三葉草"去偏振光束形狀。熱誘導(dǎo)應(yīng)力不僅會影響光束的空間輪廓,還會導(dǎo)致雙聚焦,從而破壞光束的聚焦性。這時,通過使用腔內(nèi)法拉第旋轉(zhuǎn)器,對激光棒中的去偏振和雙焦進行補償。雖然這些方法都在一定程度上起作用,但是存在去偏振在高泵浦增益介質(zhì)中沒有補償,容易受到熱效應(yīng)影響的缺點。
這些原因促使我們尋找一種新穎而實用的方法,在高泵浦增益介質(zhì)中減少去偏振和雙焦,以建立一個更高效的高峰值功率亞皮秒激光系統(tǒng)。
空間可變波片(SVWP)的研究
SVWP可以設(shè)計用于線性偏振或圓偏振入射光束。在這兩種情況下,都構(gòu)建了一個連續(xù)變化的納米光柵的快速軸向,并按切向方向的軸對中,如圖1所示。在每一點上連續(xù)形成徑向變化的延遲值。
圖1:左圖,二維快、慢軸方向分布圖 右圖,SVWP單元內(nèi)穿過虛線的延遲剖面圖
R(λ/2)標(biāo)記SVWP的等高線,其中相位延遲為λ/2, R(SVWP)標(biāo)記內(nèi)切雙折射圖的邊緣,R(el.)標(biāo)記元素玻璃基板的半徑。
此次,給出了用于去偏振補償?shù)?span style="margin: 0px; padding: 0px;">SVWP元件性能的數(shù)值,研究了線性或圓形輸入高斯光束偏振通過SVWP元件傳播的情況,計算了去偏振水平η與SVWP單元誘導(dǎo)的相位延遲δ的關(guān)系,并在圖2(下)中表示出來。補償誘導(dǎo)相位延遲所需的波束半徑與補償器半徑r/ R的比值如圖2(上)所示。圖中顯示了不同延遲δ值所需r/ R比的少數(shù)情況作為參考。
圖2:去偏振水平η與SVWP單元誘導(dǎo)的相位延遲δ的關(guān)系圖
上是SVWP元件補償誘導(dǎo)相位延遲所需波束半徑與補償器半徑r/ R的比值;
下是波束去偏振水平對SVWP單元誘導(dǎo)相位延遲的依賴性;
虛線表示補償激光束中相應(yīng)相位延遲所需的比值r/ R的值;
插圖,圓偏振(上)和線性偏振(下)在SVWP元件誘導(dǎo)的不同相位延遲下的去偏振光束剖面。
如果在SVWP中將雙折射剖面反轉(zhuǎn),就能夠給出了理想高斯光束在一定去偏振值下的SVWP參數(shù)。值得注意的是,在相同的相位延遲下,圓偏振情況下的去偏振是線偏振情況下的2倍,但所需的補償比保持不變。
SVWP元件的另一個方面是它對通過它的線偏振光束產(chǎn)生的固有散光,或圓偏振光束誘導(dǎo)的對稱聚焦。通過使用傅里葉變換方法和以下公式,將理想高斯光束傳播到SVWP中,并計算得到的波束陣面,從而實現(xiàn)建模。
E 0x、E 0y 為水平面和垂直面的輸入電場;
θ為參考偏振軸與局部雙折射軸的夾角;
β為線偏振光相對于水平面(x軸)的夾角;
1φ為水平面和垂直面電場的相位;
δ為偏振分量之間的誘導(dǎo)相位延遲。
研實驗設(shè)置與結(jié)論
亞皮秒高峰值功率和高重復(fù)率激光系統(tǒng)的實驗設(shè)置由一個原型版本的FemtoLux 30激光器進行,在1 MHz脈沖重復(fù)率下輸出功率為37 W,脈沖啁啾持續(xù)時間為~ 220 ps,帶寬為1λ = 3.3 nm(在FWHM),中心為1030 nm。所研制的激光系統(tǒng)由基于PCA的定制激光FemtoLux 30作為種子源、DPSS Yb:YAG功率放大器和四通衍射光柵脈沖壓縮器組成。
由于相同的拋物型延遲剖面,通過改變?nèi)肷涞?span style="margin: 0px; padding: 0px;">SVWP元件上的種子束直徑,我們可以改變SVWP元件誘導(dǎo)的相位延遲,從而適應(yīng)不同的泵浦條件。這種方法方便了實驗靈活性,可以在不同的實驗布局中補償不同的去偏振量。利用延遲值為δ = 0.44λ (R = 1.5 mm)的SVWP來補償雙通道結(jié)構(gòu)中產(chǎn)生的去偏振和雙聚焦,它被放置在后反射面RM附近。如圖3所示。
圖3:完整的激光系統(tǒng)布局圖
使用標(biāo)準(zhǔn)的z掃描技術(shù)對光束質(zhì)量進行了表征,方法是使用具有明確焦距的正透鏡聚焦光束,并沿傳播方向跟蹤光束半徑的變化。z掃描的最佳擬合度為M2 ~ 1,表明幾乎衍射有限的光束質(zhì)量。如圖4所示。
壓縮脈沖由二次諧波產(chǎn)生的頻率分辨光學(xué)器件表征門控(SHG-FROG)自相關(guān)法。FROG算法(Swamp Optics)使用1024 × 1024網(wǎng)格檢索到的脈沖持續(xù)時間為318 fs,如圖5所示。
圖4:光束半徑測量圖 圖5:壓縮脈沖的包絡(luò)線測量圖
光束在第二次通過后被成像回放大器晶體,并通過偏光器P1進行耦合。測量了雙通放大、泵浦吸收和去偏振水平對種子功率的依賴性。結(jié)果顯示在圖6和圖7中。
在1 MHz脈沖重復(fù)率下,在37 W種子功率下實現(xiàn)了129 W的最大輸出功率(圖6)。對于280 W泵浦功率,它對應(yīng)32%的放大器效率。在較低的種子功率下,獲得16.7 dB的增益。圖7(右下圖)繪制了不同輸入種子功率水平下去偏振變化的依賴性。在小信號增益體制下,去偏振水平為4.2%,在37 W輸入功率去偏振水平達到17.9%。由此可知,去偏振水平取決于輸入種子功率。
圖6:平均輸出功率(紅色)和放大器總增益(黑色)對比圖 圖7:吸收泵浦和誘導(dǎo)去偏振η與輸入種子功率圖
最初,去偏振補償器被移除,以檢查Yb:YAG放大器晶體如何修改光束的空間和偏振特性。對放大后的光束進行z 掃描測量。信號波束由F = 200 mm的透鏡聚焦,放置在距離偏光器P1 1米的地方,并由CMOS相機捕獲沿聚焦波束燒灼(z掃描剖面)的波束半徑(在4西格瑪水平)。安裝去偏振補償器后,重復(fù)同樣的過程。在雙通放大器配置中,帶和不帶去偏振補償?shù)?span style=";padding: 0px">z掃描結(jié)果如圖8所示。
從輸出頻譜得到的變換受限脈沖持續(xù)時間為415 fs。從FROG中提取的殘留光譜相位在1024.3到1033.8 nm的光譜范圍內(nèi)為~ 2.3 rad,包含了98%的總脈沖能量。壓縮脈沖的時間Strehl比,定義為脈沖的實際峰值功率與帶寬受限脈沖的時間Strehl比為81%,表明具有較高的放大脈沖質(zhì)量。與83%的初始種子脈沖時間Strehl比相比,脈沖質(zhì)量較低限度地下降,而由于增益窄化效應(yīng),脈沖帶寬從3.3 nm (FWHM)縮小到2.3 nm (FWHM)。在脈沖壓縮器中測量到的衍射和反射損失為約10%,導(dǎo)致總輸出功率為約116 W,而光束質(zhì)量沒有進一步下降,保持在M2 = 1.9?2.2。如圖9所示。
圖9:壓縮脈沖的包絡(luò)線與帶寬受限脈沖形狀比較圖
實驗總結(jié)
安裝去偏振補償器后,去偏振水平從17.9%降低到2.7%(圖8上圖可知),雙焦項最小化到安裝去偏振補償器后我們無法測量的水平。由于正確選擇了補償器參數(shù),節(jié)省了大量輸出功率,并保持了對稱的光束形狀,由此產(chǎn)生的去偏振補償和雙焦降低效果明顯。
與其他方法相比,我們提出的方法更有益,如內(nèi)腔四分之一波板,內(nèi)腔法拉第旋轉(zhuǎn)器,帶有兩個相同泵浦和繼電器成像增益介質(zhì)的經(jīng)典去偏振補償布局,以及不同的晶體切割方向。
立陶宛WOP的空間可變波片
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