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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
詳細(xì)介紹
雙面研磨拋光機(jī)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
RB183-160D雙面研磨拋光機(jī)主要用于石英晶片、藍(lán)寶石、陶瓷、玻璃、金屬等片狀材料的精密雙面研磨拋光。本機(jī)采用渦輪蝸桿減速機(jī)為傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，通過齒輪組實(shí)現(xiàn)上、中、下三軸不同速度、不同方向的轉(zhuǎn)動(dòng)，使上、下研磨拋光盤和中間太陽輪產(chǎn)生速度差以及相對(duì)運(yùn)動(dòng)，而樣件置于太陽輪驅(qū)動(dòng)的載樣齒輪內(nèi)孔中，從而對(duì)其進(jìn)行雙面研磨拋光。
技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品型號(hào) | RB183-160D | |||
| 安裝條件 |
本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有上水口及下水口，客戶需連接自來水冷卻及下水口排水。 2、電：AC220V;50Hz，必須有良好基地。 3、氣：無。 4、工作臺(tái)：尺寸800mm（L）*600mm(W)*700mm(H),承重200kgs以上。 5、通風(fēng)裝置：不需要。 | |||
主要特點(diǎn) | 1、轉(zhuǎn)速采用手動(dòng)調(diào)整變頻器頻率的控制方式。 2、可同時(shí)對(duì)4片zui大尺寸為Φ2" 的基片進(jìn)行雙面研磨拋光。 3、可進(jìn)行薄片的雙面減薄。 4、是雙面研磨拋光Si、 Ge 、氧化物單晶基片的理想工具。 | |||
技術(shù)參數(shù) | 1、電源：220V 50Hz 2、功率：550W 3、磨拋盤：Φ225mm 4、磨拋盤轉(zhuǎn)速：0-72rpm內(nèi)無級(jí)可調(diào) 5、zui大樣件尺寸：Φ50mm，厚度≤15mm 6、上磨拋盤重量：3.5kg | |||
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸：650mm×500mm×580mm；重量：80kg | |||
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 研磨盤 | 1套 |  |
2 | 拋光盤 | 1套 |  | |
3 | 修盤行星輪 | 4個(gè) | - | |
4 | 載樣行星輪（電木） | 8個(gè) | - | |
5 | 配重環(huán) | 3個(gè) |  | |
6 | 磁力片 | 4片 | - | |
7 | 研拋底片 | 4片 | - | |
8 | 拋光墊（磨砂革、合成革、聚氨酯） | 各2片 | - | |
9 | 研磨膏（W2.5） | 1支 |  | |
可選配件 | 可根據(jù)您的需要制作不同開孔的載樣齒輪。 | |||
