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氧化鋁的局限性:哪些樣不應(yīng)該進到氧化鋁/ Al2O3色譜柱上

閱讀:5798發(fā)布時間:2019-2-20

Jaap de Zeeuw

 

氧化鋁(Al2O3)毛細PLOT柱已有約35年的歷史。它們適合分離C1-C10烴類,特別是C1-C5烴類。氧化鋁具有*的選擇性,可以在高于室溫的溫度下分離所有不飽和烴,見圖1。雖然它是分析不飽和烴的優(yōu)選,但需要特別注意戊二烯和1,2-丁二烯等組分在氧化鋁上會有反應(yīng)。遇到這種情況,通常通過如下方式來解決:使用更低的分析溫度,更高的流速,使用惰性更好的氧化鋁色譜柱(如CFC)。

什么樣可從氧化鋁柱中洗脫?

Al2O3 PLOT上分離C1-C4

所有C12以下的烴和二甲苯以下的芳烴基本都可被洗脫下來。氮氣,氧氣,氫氣,氖氣,氬氣,氪氣,氙氣等 yong jiu 性和惰性氣體*洗脫,幾乎無殘留。CO以及甲烷也和 yong jiu 性氣體一起從氧化鋁中洗脫出來。這些氣體可以分離,但柱溫必須降至-100或更低。

N2O這樣的氣體在氧化鋁柱上有較好保留,且峰形良好。

幾種含氯氟烴有保留,但是氧化鋁的類型和如何失活將決定其活性,詳見下文。

 

我們將在這里討論我們不應(yīng)注入的化合物,從影響大的那一個開始:

 

痕量的水將使氧化鋁失活,導(dǎo)致保留降低,見圖2。水會影響全部化合物的保留并改變色譜柱的選擇性。在分析極性烴(如甲基乙炔)時可以看到這一點。

如何解決?

·      從樣品中除去水分。這較困難,消耗大量時間。

·      每次進樣后把水洗脫出來。這可以通過加熱氧化鋁柱至高溫(200/250)并保留8-10分鐘來完成。AluminaBOND MAPD可加熱至250,從而加快了這一過程。

·      如果存在痕量水,則在xx次分析后,老化色譜柱。通常,由目標(biāo)峰何時漂移出積分窗口,確定分析次數(shù)xx。

·      使用Rtx-Wax預(yù)柱(厚膜),通過閥門與氧化鋁串聯(lián)。C1-C6將首先洗脫,而那時水還保留在改預(yù)柱上。當(dāng)C1-C6進入氧化鋁時,水被切換排出或傳輸?shù)降诙€探測器(如果需要監(jiān)測)

水對Al2O3保留的影響

極性化合物(醇類,胺類,酸類,氨基醇類,氨類)

極性化合物不會以峰從氧化鋁柱中洗脫出來。如果它們洗脫出來,將表現(xiàn)為或升高的基線。一旦把它們從柱中*洗脫出來,柱性能不受影響。

如果組分的極性降低,則對氧化鋁的影響也將降低。因此,酮,醚和醛也會被吸附,但在較高溫度下更容易洗脫。

鹵代化合物

鹵代化合物可從氧化鋁柱中洗脫出來。我們可以使用AluminaBOND CFC色譜柱測量幾種CFC,參見圖3。一些鹵代組分可能會發(fā)生反應(yīng),圖4顯示了1,2-二氯乙烷和2-氯丙烷的反應(yīng)實例,它們分別分解成氯乙烯和HCl、丙烯和HCl。

 

            圖3  AluminaBOND CFC上的CFC分離                                                        氧化鋁的反應(yīng)性

二氧化碳

二氧化碳將被*吸附,但需要吸附大量的二氧化碳才會影響保留時間。如果保留時間減少,請將色譜柱升至高允許溫度老化幾小時。

硫化合物

硫化合物將被強吸附。可以分析含有亞ppm量的硫化合物(COS / H2S)的烴樣品,保留時間稍有變化。

重?zé)N

C12烴及以上不會作為單獨的峰洗脫出來,將表現(xiàn)為基線的升高。氧化鋁柱似乎會流失。如果它流失,則表明柱上有吸附的物質(zhì)。請定期在大操作溫度下老化色譜柱,直到基線平整。

硅氧烷

請注意,硅氧烷也會留在色譜柱上并使基線升高。這通常是由加壓隔墊引起的。對于輕質(zhì)烴類,請嘗試使用適度的進樣口溫度(80-100°C)。對于C1-C6化合物的混合物,您不需要250°C的進樣口溫度。

 

推薦解決方案

在所有情況下,當(dāng)樣品中含有吸附在氧化鋁上的成分,并且確實會影響保留和分離時,推薦的方法是使用可以反沖洗的預(yù)柱。這樣,不使會被吸附的組分進入氧化鋁分析柱,烴的保留時間將可重現(xiàn)。您可以選擇使用短的(1-2米)氧化鋁柱作為保護,并使用閥門切換或使用Deans切換進行反沖洗。如今,這些系統(tǒng)非常易于設(shè)置和操作。


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