主要技術(shù)參數(shù)

   測(cè)量結(jié)果重復(fù)性：    優(yōu)于3%
   誤差
   塞貝克系數(shù)：          < 3% (半導(dǎo)體)
                                < 5% (金屬)
   電導(dǎo)率：                < 5% (半導(dǎo)體)
                                < 8% (金屬)
   測(cè)量速度：            測(cè)量一個(gè)點(diǎn)的時(shí)間小于4秒

   電導(dǎo)率-塞貝克系數(shù)掃描探針顯微鏡技術(shù)由德國(guó) Panco 公司和德國(guó)宇航中心公共研制開發(fā)，點(diǎn)擊資料下載按鈕下載說明手冊(cè)。

部分用戶名單：  
Beijing University of Technology
Corning Company
Korea Research Institute of Standards and Science
Shanghai Institute of Ceramics, CAS
Germany Air Force Research Lab

Simens Company 
Gwangju Institute of Science and Technology 
Hamburg University 
Munich University