EZ ECL 化學發(fā)光液（普通型）

產品描述
EZ ECL 化學發(fā)光液（普通型）是一款常規(guī)靈敏度的化學發(fā)光(ECL)HRP底物，可幫助用戶在免疫印跡分析過程中實現10pg的蛋白檢測(~1×10^-11g)，極其節(jié)省抗體。EZ ECL 底物可為使用辣根過氧化物酶(HRP)偶聯物的免疫印跡實驗提供明亮的信號和皮克級檢測靈敏度。該底物能夠兼容各種膜、封閉液和寬范圍抗體稀釋液，以出色性能、通用性和高性價比，滿足用戶的免疫印跡應用需求。
EZ ECL 底物的特點：
• 常規(guī)靈敏度：檢測硝化纖維素膜或PVDF膜上10pg的蛋白條帶。。
• 長信號持續(xù)時間：在條件優(yōu)化情況下，經底物孵育的印跡條帶能夠持續(xù)輸出 6~8 h 的可檢測光信號。
• 試劑穩(wěn)定：試劑盒在室溫下可穩(wěn)定放置長達6個月，4℃條件下存放1年不影響使用。
建議稀釋濃度：
• 一抗?jié)舛龋航ㄗh以1mg/mL儲備液起1:1,000-1:5,000 或 0.2-1ug/mL
• 二抗?jié)舛龋航ㄗh以1mg/mL儲備液起1:5,000-1:20,000 或 2.5-10ng
訂購信息

產品組分

運輸與保存
藍冰運輸。4℃避光干燥保存，有效期12個月。
使用方法

1. 取出印記膜，加入合適的封閉液在溫室下孵育20~60min，同時振蕩，以封閉膜上非特異性蛋白結合位點。

2. 將膜從封閉液中取出，與一抗工作液在溫室孵育1 h，同時振蕩；或在28℃ 孵育過夜，不振蕩。

3. 將足量的洗滌緩沖液加至膜上，保證緩沖液將膜覆蓋。振蕩孵育≥5 min，更換洗滌緩沖液并重復該步驟4~6次。增加洗滌緩沖液體積，洗滌次數和洗滌時間有助于降低背景信號?！咀ⅰ浚孩俜跤?，膜在洗滌緩沖液中的短暫淋洗會提高洗滌效率。②按前文建議的HRP標記二抗稀釋度非常重要的。

4. 將HRP標記的二抗工作液與膜在溫室孵育1 h，同時振蕩。

5. 重復步驟3，以除去未結合的HRP標記二抗?！咀ⅰ浚耗づcHRP標記二抗孵育后必須進行洗滌。

6. 將A溶液與B液等比例混合，制備成工作液。每cm²膜使用0.01~0.1 mL工作液，工作液可以在溫室下穩(wěn)定8 h?！咀ⅰ浚罕┞队谌展饣蚱渌麖姽庀驴赡軗p害工作液，為獲得最佳結果，請將此工作液保存在琥珀色瓶中光；實驗室的常見照明不會損害工作液。

7. 將印記膜在工作液中孵育5 min。從工作液中取出印記膜，并置于一個塑料片或清潔的塑料紙（膜）中，用一張吸水紙吸除多余的液體，并從印記和塑料紙之間小心地壓出氣泡。

8. 將包在塑料紙（膜）中的印記膜置于膠片暗盒中，蛋白質面朝上，除適用于膠片曝光的燈（如紅色安全燈）之外，關閉所有的燈。【注】：①膠片必須在曝光期間保持干燥；②確保將多余的底物從膜和塑料紙上去除；③在整個膠片處理期間，使用手套。

9. 將X光膠片置于膜的上面。建議第一次曝光60 s。之后可調整曝光時間以達到最佳結果?；瘜W發(fā)光反應在底物孵育后的前5~30 min期間是烈的。這一反應可以持續(xù)幾個小時，但強度會隨時間下降，如有底物孵育后較長時間后曝光，曝光時間可能需要延長以獲得較強信號。如果使用磷光存儲成像設備（如Bio-Rad的分子成像儀系統）或CCD照相機可能需要較長的曝光時間?！咀ⅰ浚耗z片與膜之間的任何移動可能在膠片上造成人為的非特異信號。

10. 使用合適的顯影劑和定影劑對膠片進行顯影。如果信號太強，則縮短曝光時間或將印記膜進行剝離并降低抗體濃度重新檢測。

注意事項

1. 本產品僅限于科學實驗研究使用，不得用于臨床診斷、治療等領域。

2. 為獲得最佳效果，必須優(yōu)化該系統的全部組分，包括樣品量、一抗和二抗?jié)舛纫约澳ず头忾]試劑的類型。該底物極其敏感，自測李記底物正常使用比大多數他牌底物少得多的樣品、一抗、二抗。

3. 使用本產品比使用沉淀比色HRP底物檢測所需的抗體濃度低。為優(yōu)化抗體濃度，請進行一次系統的點印跡分析。

4. 沒有一種封閉試劑對所有系統而言都是最佳的，所以為每一個免疫印跡檢測系統找到最合適的封閉緩沖液非常必需。封閉試劑有可能與抗體產生交叉反應，導致出現非特異性信號。封閉緩沖液同時也會影響系統的靈敏性。當從一種底物轉換為另一種底物時，有時會出現信號衰減或背景增加的現象，原因可能是封閉緩沖液不適合新的檢測系統。

5. 使用親和素/生*素檢測系統時，避免使用牛奶作為封閉試劑，因為牛奶中含有不定量的內源性生*素，會導致高背景信號。

6. 保證洗滌緩沖液、封閉緩沖液、抗體溶液和底物工作液的使用體積，以確保在整個實驗過程中印跡膜被液體覆蓋，避免膜變干。增大封閉緩沖液及洗滌緩沖液的使用量可以降低非特異性的信號。

7. 為獲得最佳效果，在孵育步驟請使用搖床。

8. 將Tween20(終濃度0.05~0.1%)加入封閉緩沖液和稀釋的抗體溶液，以降低非特異信號。使用高品質的產品，如去污劑。它保存在安瓿中，過氧化物和其他雜質含量很低。

9. 不要使用疊氮鈉作為緩沖液的防腐劑。疊氮鈉是HRP的抑制。

10. 避免手與膜直接接觸，實驗過程應戴手套或使用干凈的鑷子。

11. 所有設備必須清潔且不沾染外來物質。金屬器械（如剪刀）不得具有可見的銹跡。銹跡可能導致斑點形成和高背景。

12. 底物工作液在室溫下可穩(wěn)定8 h。日光或任何其他強光下可能損害底物，為獲得最佳結果，將底物工作液保存在琥珀色瓶中，并避免長期暴漏在任何強光下，短時間暴漏于實驗室常規(guī)照明不會損害該工作液。

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