UVM10 -UV光束質(zhì)量分析儀

 metroluxUVM10 -UV光束質(zhì)量分析儀可測量激光強(qiáng)度分布，范圍包括EUV，UV，VIS和NIR，光斑直徑從1µm - 100 mm，可按EN-ISO標(biāo)準(zhǔn)記錄和分析光束。

    具有適合于分析光斑和光束位置以及用于均勻激光光束特點(diǎn)描述的各種軟件工具，可選附件便于協(xié)調(diào)脈沖激光器和單脈沖的測量。

    機(jī)械部分采用特殊表面細(xì)化、光學(xué)部分采用光學(xué)增透膜把雜散光減小到zui小的優(yōu)化探測頭。

    VIS/NIR激光光束分析儀 UV激光光束分析儀

    基于激光光束分析儀的“光束檢測”的CCD相機(jī)，被優(yōu)化適合于低輸出功率的連續(xù)和脈沖激光器準(zhǔn)直光束分析，大部分VIS/NIR波長范圍的激光，可用此系統(tǒng)典型分析，例如Nd:YAG或者半導(dǎo)體激光器通常使用此系統(tǒng)分析。

    光束質(zhì)量分析儀包含Beamlux II軟件、標(biāo)準(zhǔn)攝像頭及附件如中性密度濾光片組合和可快速建立測量的設(shè)備，使用這些可選配件，系統(tǒng)也可用于高功率激光束和焦點(diǎn)直徑小于10µm的測量。

UVM10 -UV光束質(zhì)量分析儀產(chǎn)品參數(shù) ：

可用的UV轉(zhuǎn)換窗口片： K2、K6、k7、K8

波長：                            1 - 360 nm

轉(zhuǎn)換器：                          可選

功率：                             <10W

傳感器類型：                 CCD2/3"

軟件：                           Beamlux II高級版

光束類型：                    原始發(fā)散光

光斑大?。?/span>                   <56X44mm2

能量密度：                  <50mJ/cm2

接口：                        IEEE1394

工作距離：                 取決于轉(zhuǎn)換窗口片

可選型號：

UVM10-S ：   探測面積 12 x 9 mm²
UVM10-M：   探測面積23 x 17 mm²
UVM10-L：    探測面積30 x 25 mm²
UVM10-XL：   探測面積 44 x 33 mm²
UVM10-XXL ： 探測面積50 x 40 mm²

不同的型號尺寸有差別，其他大小探測器面積請咨詢我們！

產(chǎn)品應(yīng)用：光斑大小、發(fā)散角、近場、遠(yuǎn)場、光束指向穩(wěn)定性、功率、均勻性

轉(zhuǎn)換窗口片：

 窗扣片的功能為把紫外光和紅外光轉(zhuǎn)換為可見光進(jìn)入光束質(zhì)量分析儀進(jìn)行分析，材料轉(zhuǎn)換指標(biāo)如下：

                                                                              窗口片材料

                                                                           可選尺寸