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Couloscope CMS2 STEP鍍層測厚儀(破壞性)
參考價(jià): 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 產(chǎn)品型號(hào)
  • Helmut Fischer/德國菲希爾 品牌
  • 代理商 廠商性質(zhì)
  • 上海市 所在地

訪問次數(shù):1118更新時(shí)間:2024-09-24 14:44:07

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產(chǎn)品簡介
Couloscope CMS2 STEP鍍層測厚儀(破壞性)
作為測量鍍層厚度Z簡單的方法之一,庫侖法可以用于 各種鍍層組合。 尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu), 當(dāng)允許破壞性測 量時(shí),它提供了一個(gè)比 X 射線更經(jīng)濟(jì)的替代方法。 很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可 以用 CMS2 簡單快速地測量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層 提供了的測量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm 內(nèi), 很多 材料不需
產(chǎn)品介紹

Couloscope CMS2 STEP鍍層測厚儀(破壞性)

 

 

作為測量鍍層厚度zui簡單的方法之一,庫侖法可以用于 各種鍍層組合。 尤其對(duì)于多鍍層結(jié)構(gòu), 當(dāng)允許破壞性測 量時(shí),它提供了一個(gè)比 X 射線更經(jīng)濟(jì)的替代方法。 很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可 以用 CMS2 簡單快速地測量。這個(gè)方法為任何金屬鍍層 提供了的測量。在厚度范圍 0.05 - 50 μm 內(nèi), 很多 材料不需要預(yù)設(shè)定;基材組成和幾何形狀對(duì)于測量都 是無關(guān)緊要的。 

測量槽------可比作微型電解缸------被用來剝離鍍層。 測量 面積由裝在測量槽上的墊圈尺寸來決定。對(duì)不同的金屬 采用不同配方的電解液。通過載入電流開始電解過程。 電解過程由 COULSCOPE 儀器的電子部分控制, 用一 個(gè)泵攪拌電解液來使電解區(qū)域電解液平穩(wěn)腐蝕,保證電 解液*利用。 根據(jù)測量區(qū)域的大小,各種直徑的墊圈 可供選擇。 
 

測量印刷線路板上剩余純錫的厚度 :

zui常見的應(yīng)用之一就是測量線路板上剩余的純錫,以確 ??珊感?。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu 在鐵或者塑料(ABS) 基材上,經(jīng)常被用于高品質(zhì)的浴室用品,也可以用這個(gè) 方法進(jìn)行測量 

 

 

特性:

  • 吸引人的設(shè)計(jì),大的液晶顯示器和清晰安排的鍵盤。
  • 操作簡單,菜單指引的操作提示。
  • 電解區(qū)域直徑從0.6 mm (24 mils) 至3.2 mm (128 mils)。
  • 大約100個(gè)預(yù)先定義好的應(yīng)用程式適用于大多數(shù)的金屬鍍層,包括測量線材。
     

測量原理

這個(gè)系列儀器根據(jù) DIN EN ISO 2177 標(biāo)準(zhǔn)的庫侖法。 金屬或非金屬基材上的金屬鍍層,通過在控制電流條件 下電解腐蝕--------實(shí)際上就是電鍍的反過程。所載入的電 流與要?jiǎng)冸x的鍍層厚度是成正比的,假如電流和剝離面 積保持不變,鍍層厚度與電解時(shí)間就是成正比的關(guān)系。 
 
 

下面的公式適用于通過庫侖法電解腐蝕確定鍍層厚度:

d:   
鍍層厚度 [µm] 
eÄ: 
電化學(xué)當(dāng)量 [g/As] 
I:    
電解電流 [A] γ:    電解效率
t:    電解時(shí)間 [s]

A:   電解面積 [cm2]

ρ:   電解鍍層材料密度 [g/cm3]  

 

 

 

 

COULOSCOPE CMS基本配置:

儀器:            Couloscope CMS
測量臺(tái):          V24、V26、V18 等
電解液:          F1 ~ F22
COULOSCOPE CMS特征:
標(biāo)準(zhǔn):DIN EN ISO 2177 ; ASTM B504

模擬輸出: 0 ~ -18V
輸入阻抗: > 2 KΩ
工作溫度: 10 ℃ ~ 40 ℃
儀器重量: 6 kg 
電源: AC 220 V ,50-60 Hz;zui大功耗 ≤ 85 VA
尺寸: 350W * 140H * 200D  mm

 

 
 


 



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