Fischer CMS2 STEP庫(kù)侖法電位差測(cè)厚儀
CouloScope CMS STEP電解測(cè)厚儀的特征:
標(biāo)準(zhǔn):DIN EN ISO 2177 ; ASTM B504
大屏幕點(diǎn)陣液晶顯示屏,可顯示文字與圖形:126 * 70 mm
可設(shè)置和儲(chǔ)存:50個(gè)應(yīng)用程式、600個(gè)數(shù)據(jù)組;3 000個(gè)數(shù)據(jù)
統(tǒng)計(jì):平均值、zui大值、zui小值、標(biāo)準(zhǔn)偏差、測(cè)量次數(shù)、Cp、Cpk 和直方圖
使用多層菜單和軟鍵,使操作更方便
RS232 接口可通過(guò)電纜和傳輸軟件將數(shù)據(jù)傳到 PC
模擬輸出: 0 ~ -18V
輸入阻抗: > 2 KΩ
工作溫度: 10 ℃ ~ 40 ℃
儀器重量: 6 kg
電源: AC 220 V ,50-60 Hz;zui大功耗 ≤ 85 VA
尺寸: 350W * 140H * 200D mm
COULOSCOPECMS
CouloScope CMS STEP電解測(cè)厚儀
分步測(cè)量: 鍍層厚度和電位差
COULOSCOPE CMS STEP可用于測(cè)量:
Au、Cd、Cr、Pd、Ni、Sn、Zn、Pb、Pb60Sn40、Brass 等金屬
基材可為 Cu and Cu-Alloy、Al and Al-Alloy、Zn and Zn-Alloy、Ni、Fe、非金屬材料等
Fischer CMS2 STEP庫(kù)侖法電位差測(cè)厚儀
電位差,也稱(chēng)作電勢(shì)差或電壓,是衡量單位電荷在靜電場(chǎng)中由于電勢(shì)不同所產(chǎn)生的能量差的物理量。電位差的單位制為伏特(V,簡(jiǎn)稱(chēng)伏),常用的單位還有毫伏(mV)、微伏(μV)、千伏(kV)等。此概念與水位高低所造成的“水壓”相似。需要指出的是,“電壓”一詞一般只用于電路當(dāng)中,“電勢(shì)差”和“電位差”則普遍應(yīng)用于一切電現(xiàn)象當(dāng)中。
應(yīng)用領(lǐng)域
- 涂層部件的進(jìn)貨檢驗(yàn),例如汽車(chē)工業(yè)中的鍍鉻鑲邊(帶有雙層鎳)
Couloscope CMS STEP測(cè)厚儀特點(diǎn)
測(cè)量法對(duì)多層涂鍍層系統(tǒng)的電位差測(cè)試,以及用于金屬或非金屬基材上所有的金屬涂鍍層的庫(kù)侖電量涂鍍層厚度測(cè)量(單層或多層系統(tǒng))。
- 該多層鎳測(cè)厚儀器根據(jù)庫(kù)侖電量分析法進(jìn)行測(cè)量,符合 DIN EN ISO 2177、50022 和 ASTM B764標(biāo)準(zhǔn)
- 通過(guò)電位差測(cè)試儀器可以簡(jiǎn)便的對(duì)鎳鍍層之間的電化學(xué)的電位差進(jìn)行測(cè)量。 可以用于測(cè)量銅基層、鎳多層涂層和鉻涂層的厚度。
Couloscope CMS STEP測(cè)厚儀測(cè)量版本:
4種不同類(lèi)型的測(cè)量臺(tái)適合于測(cè)量各種種類(lèi)的被測(cè)物體。
測(cè)量臺(tái)V18有1個(gè)新的測(cè)量槽設(shè)計(jì)。由于在每次測(cè)量后有一個(gè)泵會(huì)自動(dòng)地排出電解液至儲(chǔ)液箱內(nèi),也就不再需要手動(dòng)清空測(cè)量槽了,一次注滿(mǎn)測(cè)量槽就可以多次測(cè)量。
測(cè)量臺(tái)V24允許靈活定位小工件。
測(cè)量臺(tái)V26主要為簡(jiǎn)單和平面形狀的物體而設(shè)計(jì)。
測(cè)量臺(tái)V27主要為在線(xiàn)材上測(cè)量而設(shè)計(jì)。
COULOSCOPE CMS STEP庫(kù)倫測(cè)厚儀特性:
吸引人的設(shè)計(jì),大的液晶顯示器和清晰安排的鍵盤(pán)。
操作簡(jiǎn)單,菜單指引的操作提示。
電解區(qū)域直徑從0.6 mm (24 mils) 至3.2 mm (128 mils)。
大約100個(gè)預(yù)先定義好的應(yīng)用程式適用于大多數(shù)的金屬鍍層,包括測(cè)量線(xiàn)材。
COULOSCOPE CMS STEP
在電鍍行業(yè)中,對(duì)多層鎳鍍層中各自層的同時(shí)的厚度和電極電位的測(cè)定變成了一個(gè)越來(lái)越重要的需求。的多鍍層組成為不含硫的半光亮鎳層和含硫的光亮鎳層。這兩個(gè)鎳層?reg;間足夠的電位差導(dǎo)致了光亮鎳層優(yōu)先腐蝕于半光亮鎳層。這種次序也就延遲了整個(gè)鎳層的穿透速度,并且給了基材相對(duì)于單鍍層更好的防腐保護(hù)。
COULOSCOPE CMS STEP可以通過(guò)定位于電位-時(shí)間表中相關(guān)部分的雙指針來(lái)方便地測(cè)出鍍層厚度和電位差。這個(gè)圖表能夠外部保存或通過(guò)RS232轉(zhuǎn)換到PC電腦中。