edi超純水和ro反滲透設(shè)備都是用于工業(yè)間的純水制取設(shè)備，但是這兩種設(shè)備之間還是存在于一定的區(qū)別的，有很多人對于這兩種設(shè)備的區(qū)別還不是很清楚，在選購時也不知道哪一個更適合。

edi超純水一般大都簡稱為EDI，這種設(shè)備主要采用的是電子去離子水的凈化技術(shù)，將電滲析和離子交換相結(jié)合的脫鹽新工藝。

ro反滲透設(shè)備采用*進的單級低壓反滲透技術(shù)，其技術(shù)原理是利用壓力表差為動力的膜分離過濾來對原水（自來水、地下水）進行提純。

edi設(shè)備的優(yōu)勢有：

1、設(shè)備運行期間不會加入任何的化學(xué)藥品，因此是不會出現(xiàn)酸堿再生二次污染的情況出現(xiàn)；

2、在產(chǎn)水期間沒有復(fù)雜的操作程序，可以實現(xiàn)連續(xù)不間斷的穩(wěn)定制水，也不會出現(xiàn)因再生而停機；

3、整個設(shè)備的大小可根據(jù)場地的高度等因素進行定制，因此是降低了安裝的要求，占地面積小，減少來運行的成本；

4、整個產(chǎn)水過程是無需請人管理的、運行期間也無需加入任何的化學(xué)藥劑、所占的面積小，因此整個運行下來的成本是非常低的。

ro反滲透設(shè)備的優(yōu)勢：

1、可采用物理法除鹽；

2、實現(xiàn)連續(xù)性的產(chǎn)水且出水穩(wěn)定；

3、反滲透水處理技術(shù)也不會造成水的二次污染；

4、適用水質(zhì)范圍寬；

無論是在電子工業(yè)如顯像管，玻殼、集成電路塊、單晶硅半導(dǎo)體、醫(yī)藥行業(yè)用水、除鹽純水、火力發(fā)電鍋爐、電鍍工藝用去離子水、電池（蓄電池）生產(chǎn)工藝的純水等領(lǐng)域，這些都是可以采用以上的兩種純水制取設(shè)備，兩者之間的優(yōu)勢大致相同，具體更適合哪一種還需根據(jù)企業(yè)對于水質(zhì)的要求進行劃分。