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edi超純水和ro反滲透設(shè)備都是用于工業(yè)間的純水制取設(shè)備,但是這兩種設(shè)備之間還是存在于一定的區(qū)別的,有很多人對于這兩種設(shè)備的區(qū)別還不是很清楚,在選購時也不知道哪一個更適合。
edi超純水一般大都簡稱為EDI,這種設(shè)備主要采用的是電子去離子水的凈化技術(shù),將電滲析和離子交換相結(jié)合的脫鹽新工藝。
ro反滲透設(shè)備采用*進的單級低壓反滲透技術(shù),其技術(shù)原理是利用壓力表差為動力的膜分離過濾來對原水(自來水、地下水)進行提純。
edi設(shè)備的優(yōu)勢有:
1、設(shè)備運行期間不會加入任何的化學(xué)藥品,因此是不會出現(xiàn)酸堿再生二次污染的情況出現(xiàn);
2、在產(chǎn)水期間沒有復(fù)雜的操作程序,可以實現(xiàn)連續(xù)不間斷的穩(wěn)定制水,也不會出現(xiàn)因再生而停機;
3、整個設(shè)備的大小可根據(jù)場地的高度等因素進行定制,因此是降低了安裝的要求,占地面積小,減少來運行的成本;
4、整個產(chǎn)水過程是無需請人管理的、運行期間也無需加入任何的化學(xué)藥劑、所占的面積小,因此整個運行下來的成本是非常低的。
ro反滲透設(shè)備的優(yōu)勢:
1、可采用物理法除鹽;
2、實現(xiàn)連續(xù)性的產(chǎn)水且出水穩(wěn)定;
3、反滲透水處理技術(shù)也不會造成水的二次污染;
4、適用水質(zhì)范圍寬;
無論是在電子工業(yè)如顯像管,玻殼、集成電路塊、單晶硅半導(dǎo)體、醫(yī)藥行業(yè)用水、除鹽純水、火力發(fā)電鍋爐、電鍍工藝用去離子水、電池(蓄電池)生產(chǎn)工藝的純水等領(lǐng)域,這些都是可以采用以上的兩種純水制取設(shè)備,兩者之間的優(yōu)勢大致相同,具體更適合哪一種還需根據(jù)企業(yè)對于水質(zhì)的要求進行劃分。
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