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Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器

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更新時(shí)間:2025-02-01 10:12:33瀏覽次數(shù):62

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Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器,具有高效、緊湊的4通道,具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見(jiàn)工藝金屬(如金、銀和鉻)時(shí)提供佳的控制力,并且與熱舟源相比,對(duì)基底和周?chē)h(huán)境的熱負(fù)荷極小。

詳細(xì)介紹

Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器用于電子束蒸發(fā)器,具有高效、緊湊的4通道,具備共蒸發(fā)能力。迷你電子束蒸發(fā)器能夠在沉積常見(jiàn)工藝金屬(如金、銀和鉻)時(shí)提供佳的控制力,并且與熱舟源相比,對(duì)基底和周?chē)h(huán)境的熱負(fù)荷極小。

Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器

這種技術(shù)利用電子束直接蒸發(fā)棒狀材料,或者通過(guò)加熱偏置坩堝間接蒸發(fā)材料。當(dāng)從坩堝蒸發(fā)時(shí),部分準(zhǔn)直的電子束在材料利用率方面比傳統(tǒng)電子束蒸發(fā)器或熱舟源更具優(yōu)勢(shì),尤其是在處理昂貴材料時(shí)。
主動(dòng)冷卻的銅頭設(shè)計(jì)使得在運(yùn)行過(guò)程中幾乎不產(chǎn)生放氣,而封閉的蒸發(fā)槽可以吸收大部分輻射熱,從而進(jìn)一步降低對(duì)基底的熱負(fù)荷。Evap-4非常適合在溫度敏感的基底上沉積精確的薄膜涂層。Evap-4配備了通量板,用于測(cè)量源材料發(fā)出的離子通量,并提供沉積速率的獨(dú)立測(cè)量。
Evap-4 Power Supply電子束蒸發(fā)電壓控制器可在一個(gè)單元內(nèi)控制多達(dá)4個(gè)蒸發(fā)槽,并提供兩種控制模式:
  • 燈絲電流控制:用戶直接調(diào)節(jié)燈絲電流。
  • 功率控制:用戶設(shè)置功率設(shè)定點(diǎn),電源會(huì)自動(dòng)調(diào)節(jié)燈絲電流以達(dá)到所需的功率。

規(guī)格參數(shù)
  • 安裝法蘭:NWCF63
  • 真空內(nèi)長(zhǎng)度:標(biāo)準(zhǔn)300毫米(可定制長(zhǎng)度)
  • 真空內(nèi)直徑:57毫米
  • 坩堝體積:1000毫米3(1立方厘米)
  • 坩堝材料:鉬(Mo)、鎢(W)、石墨(Gr)
  • 坩堝襯里:氧化鋁(Al?O?)、氮化硼(PBN)
  • 超高真空(UHV)兼容性:是,可烘烤至250°C
  • 冷卻液流量:Min1.0升/分鐘
  • 快門(mén):手動(dòng)或可選氣動(dòng)執(zhí)行器
  • 功率:?jiǎn)蜗?00-240伏交流電,50/60赫茲


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