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原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000
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  • 原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000

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貨物所在地: 浙江杭州市
更新時(shí)間: 2025-01-03 18:35:31
期: 2025年1月3日--2026年1月3日
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000以MEMS自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片為檢測(cè)核心,摒棄在尾氣氣路中檢測(cè)氣體分子的方法,實(shí)現(xiàn)原位實(shí)時(shí)的程序升溫分析功能。

詳細(xì)介紹

原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000以MEMS自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片為檢測(cè)核心,摒棄在尾氣氣路中檢測(cè)氣體分子的方法,實(shí)現(xiàn)原位實(shí)時(shí)的程序升溫分析功能。

該儀器的工作原理和方法為世界Innovation for the first time,與傳統(tǒng)化學(xué)吸附分析儀相比,除了體積更小巧外,本儀器具有樣品消耗量少、質(zhì)量分辨率高、控溫范圍廣、分析速度快等優(yōu)點(diǎn),可廣泛應(yīng)用于TPDTPR、TPO等程序升溫分析測(cè)試。


產(chǎn)品特點(diǎn)

原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000


應(yīng)用領(lǐng)域

催化劑酸堿性

氧化/還原性

催化反應(yīng)

金屬分散度

競(jìng)爭(zhēng)性吸附

單點(diǎn)BET比表面積

吸/脫附動(dòng)力學(xué)

與光譜儀器聯(lián)用實(shí)現(xiàn)工況下原位實(shí)時(shí)表征


應(yīng)用實(shí)例

原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000

原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000

指標(biāo)名稱

參數(shù)

質(zhì)量變化測(cè)量與控溫

Phoenix系列自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片

樣品量

1 pg ~ 30   ng

質(zhì)量變化分辨率

≤1 pg

溫度控制范圍

-196℃ ~   1000℃

溫度分辨率

0.1℃

溫度波動(dòng)

±0.3℃

測(cè)量功能

TPD、TPR、TPO、TPRx、金屬分散度、單點(diǎn)BET

升溫速率

0.02 ~   8000℃/s

降溫速率

0.02 ~   4000℃/s

測(cè)量氣體

全防腐設(shè)計(jì),可通腐蝕性氣體

同時(shí)測(cè)試數(shù)

雙通道

聯(lián)用

可與光學(xué)顯微鏡、顯微拉曼光譜儀、顯微紅外光譜儀等聯(lián)用

額定功率

50W

主機(jī)尺寸(寬xx, cm

45 x 34 x   29



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