詳細(xì)介紹
holmarc HO-A216MOE-PH 自動化薄膜測試站 推出了一種使用VIS-NIR波長的新型創(chuàng)新型高靈敏度和高磁場光譜橢偏測量設(shè)備。HOLMARC A216測試站提供標(biāo)準(zhǔn)化的測試解決方案,以適合廣泛的旋光度測量應(yīng)用。模塊化硬件設(shè)計使用戶可以在磁場和無磁場的情況下自動進行液體,固體和薄膜樣品的測量。
設(shè)計用于磁光材料的研究和測試,包括鐵磁和亞鐵磁薄膜和材料的磁特性。測量包括超薄磁性膜和多層的磁滯回線,橢圓率測量,介電材料的薄膜厚度測量,折射率,Δ和psi測量等。系統(tǒng)可以在極性,縱向和橫向配置下運行。
光源 | : | 光譜鹵素?zé)?,氘?鹵素?zé)艋螂?/td> |
單色儀 | : | Quasar 300F Czerny-Turner類型 |
波長范圍 | : | 350-900納米 |
準(zhǔn)直聚焦鏡 | : | 直徑50 mm,300 F |
光學(xué)光柵 | : | 1200升/毫米 |
光譜色散 | : | 2.6納米/毫米 |
光柵尺寸 | : | 50 x 50毫米 |
衍射效率 | : | 45%-65% |
狹縫寬度 | : | 0?3 mm連續(xù)可調(diào) |
解析度 | : | 0.1納米 |
波長精度 | : | 0.2納米 |
波長重復(fù)性 | : | 0.1納米 |
雜散光 | : | 10 -3 |
線性色散的倒數(shù) | : | 2.7毫米 |
譜線的半寬度 | : | 0.2納米@ 586納米 |
極化分析法 | : | 旋轉(zhuǎn)分析方法 |
武器 | : | 步進電機控制的自動定位 |
光斑直徑 | : | 1-5毫米 |
薄膜支架樣品量 | : | 1-12毫米 |
(可應(yīng)要求提供定制架) | ||
比色杯 | : | 10毫米路徑長度石英比色皿 |
樣品室選項 | : | 高/低溫樣品架 |
樣品進料單元 | : | 步進電機控制自動定位系統(tǒng) |
電磁單元 | : | PC控制恒流運行 |
冷卻 | : | 水冷 |
高 磁場 | : | 1.75特斯拉@ 12毫米極距 |
小 現(xiàn)場檢測 | : | 1高??斯 |
磁場精度 | : | ±0.05% |
現(xiàn)場檢測 | : | 基于霍爾探頭(基于PC的現(xiàn)場測量) |
磁場反饋 | : | 霍爾元素 |
冷水機 | : | 5?25°C冷凍水(用于冷卻電磁鐵) |
體積 | : | 2升/分鐘 |
電磁電源 | : | 雙極型(大±90 V / 5A) |
電磁電源 | : | 2.5 kVA交流220V 50Hz |
控制單元 | : | 1 kVA交流220V 50Hz |
軟件 | : | Spectra ORMS軟件 |
性能
旋光度測量分辨率:±0.009度
檢測靈敏度:0.009度(透明度大于20%)。
穩(wěn)定性:0.03度(透明度大于20%)。
橢圓度測量:±0.01度。
旋光度測量范圍:±90度。
測量波長范圍:350-900 nm
光譜帶寬:1 nm(可變帶通至10nm)
高 磁場:17,500高斯
小 場檢測:1高斯
磁場精度:±0.05%
測量項目
或測量具有法拉第效應(yīng)的薄膜,晶體,液體等
透明固體和液體的測量維爾德常數(shù)
法拉第旋轉(zhuǎn)/橢圓角
極角Kerr旋轉(zhuǎn)/橢圓率角
所需波長下的磁場與法拉第旋轉(zhuǎn)角特性
法拉第旋轉(zhuǎn)角度與波長色散特性
法拉第旋轉(zhuǎn)角度與熱依賴性的關(guān)系(可選)
測量光學(xué)性質(zhì)
旋光度
膜厚
折光率
吸收系數(shù)
光電導(dǎo)率
相速度
組索引
布魯斯特角
空氣中的折射率
摩爾折射率
光子能量
規(guī)范動量
動量
組速度
PSI-Delta
Epsilon 1和2
此款產(chǎn)品不用于醫(yī)療,不用于臨床使用,此產(chǎn)品僅用于科研使用。