晶圓熱電偶溫度傳感器  TC Wafer熱電偶廠家

引言

TC為熱電偶的簡稱， TC WAFER則是直接鑲嵌于晶圓表面的溫度傳感器，可以實現(xiàn)晶圓表面溫度的實時測量。借助于放置在晶圓表面特定位置之溫度傳感器，可獲得這些特定位置的真實溫度測量值以及整天晶圓溫度分布；同時，也可利用此傳感器來持續(xù)監(jiān)控在熱處理工程中晶圓暫態(tài)溫度變化，例如：升溫，降溫過程及延遲周期等?。囟鹊木鶆蚺c否，良率）

產(chǎn)品特點

半導體制造廠 Fab，PVD/CVD 部門、RTP 部門等使用。

傳感器可以定制。

高精度多通道數(shù)據(jù)采集儀。

優(yōu)異的軟件功能，方便數(shù)據(jù)統(tǒng)計、趨勢繪圖和數(shù)據(jù)導出。

產(chǎn)品優(yōu)勢

高精度：由于其直接嵌入在晶圓表面，可以實現(xiàn)對晶圓溫度的實時、精確監(jiān)測。

可靠性：傳感器材料穩(wěn)定，適應長期運行，不易受到外界干擾。

高靈敏度：微小的溫度變化也能被傳感器準確地捕捉，確保制程的穩(wěn)定性。

即時性：傳感器的實時性能使得生產(chǎn)線上的溫度調(diào)整能夠迅速響應，減少生產(chǎn)過程中的溫度波動。

Wafer-TC晶圓熱電偶溫度傳感器在半導體制造過程中具有廣泛應用

晶圓熱處理：在晶圓加工過程中，需要對晶圓進行精確的溫度控制，以確保所需的材料性能和結構。

晶圓降溫：晶圓從高溫狀態(tài)降溫時，需要監(jiān)測溫度變化，以避免溫度梯度引起的應力和熱應力。

薄膜沉積：在薄膜沉積過程中，溫度的精確控制可以影響薄膜的厚度、均勻性和質量。

等離子體刻蝕：溫度變化可能會影響刻蝕速率和表面質量，因此需要實時監(jiān)測和控制溫度。

結論

隨著半導體技術的不斷進步，對于溫度控制的需求也在不斷增加。晶圓熱電偶溫度傳感器作為一種高精度、可靠性強的溫度監(jiān)測工具，在半導體制造過程中發(fā)揮著重要作用。通過實時監(jiān)測和控制晶圓溫度，可以提高產(chǎn)品質量、穩(wěn)定制程，并推動半導體行業(yè)的持續(xù)發(fā)展。

晶圓熱電偶溫度傳感器  TC Wafer熱電偶廠家