詳細介紹
巖征儀器 微量光化學(xué)高壓反應(yīng)釜裝置包含:光源設(shè)備、光化學(xué)反應(yīng)釜、光源及釜體溫控攪拌三大模塊組成。用于新能源及環(huán)境領(lǐng)域的高溫高壓光化學(xué)催化、合成、降解等反應(yīng)。如:光解水制氫,光催化還原二氧化碳制甲醇,光解水,二氧化碳還原制甲烷、氮氧化物的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等。特別適用少量樣品的反應(yīng),是昂貴或低產(chǎn)量樣品光催化,降解,還原的理想反應(yīng)裝置。
巖征儀器 微量光化學(xué)高壓反應(yīng)釜*技術(shù)特點:
1、光源可按照客戶要求選擇,采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器,光源光電參數(shù)及光化學(xué)反應(yīng)的溫度,攪拌等參數(shù)實時數(shù)字顯示在屏幕上,國內(nèi)*。
2、更高的使用壓力及溫度設(shè)計,普通廠家提供壓力:3mpa,溫度為200℃的設(shè)計,巖征公司提供設(shè)計壓力于普通廠家4倍的安全壓力釜體設(shè)計。
3、更專業(yè)的光化學(xué)釜體設(shè)計:釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門,溫度測溫探桿,耐壓透光視窗6大齊全部件,全方面監(jiān)控及采集您所需要的技術(shù)參數(shù)。
4、采用頂入式光源設(shè)計,特制防霧雙層JGS2光學(xué)級透光視窗,可特別選用藍寶石視窗。
5、嵌入式一體加熱模塊結(jié)構(gòu),加熱更均勻。釜體、加熱器可*分離。極大的方便了反應(yīng)釜的拆卸工作,提高工作效率。
6、更全面的光化學(xué)反應(yīng)釜的材質(zhì)選擇,除了提供普通廠家提供的SU316L材質(zhì)的釜體外,還提供不銹鋼內(nèi)襯teflon,鈦材,鎳材,哈氏合金等非標材質(zhì)釜體的定做。
巖征儀器 微量光化學(xué)高壓反應(yīng)釜型號為:YZ-GHX-HP系列,對應(yīng)容積分別有10ml,25ml,50ml,100ml,250ml,500ml六款可選。
巖征儀器 微量光化學(xué)高壓反應(yīng)釜技術(shù)參數(shù)表:
型號 | YZ-GHX-HP系列 |
容 積 | 10、25、50、100、250、500ml可選 |
工作溫度 | 300℃以內(nèi) |
工作壓力 | 10mpa以內(nèi) |
光源類型 | 紫外及模擬太陽光源 |
透光孔材質(zhì) | JGS2光學(xué)級石英或藍寶石晶體 |
加熱方式 | 模塊加熱加熱更均勻,釜體,加熱模塊可輕松分離。 |
加熱功率 | 0.5-1KW |
攪拌速度 | 0-1500rpm |
攪拌方式 | 內(nèi)部磁力攪拌 |
材質(zhì) | 標配SU316L,另有哈式合金、鈦材、鋯材、鎳材可選 |
巖征儀器*優(yōu)勢 | 1、國內(nèi)*液晶觸摸控制屏,光源及光化學(xué)反應(yīng)釜參數(shù)實時液晶顯示及屏幕上直接修改控制。 |
參數(shù) | 巖征儀器 微量光化學(xué)高壓反應(yīng)釜 | 國內(nèi)同行業(yè)廠家設(shè)備 |
光源情況 | 光源采用頂部開孔平行照射式,氙燈采用美國進口PE燈源,另選配100W,300W,500W,1000W汞燈,汞氙燈,氙燈光源。 | 普通光源,光源功率瓦數(shù)上不全。 |
容積 | 10-500ml(巖征公司是專業(yè)反應(yīng)釜公司,容積、規(guī)格圖紙完善,設(shè)計施工一體,可按照客戶需求定制。 | 容積單一,集中在100ml,200ml等一些常用規(guī)格上 |
控制部分 | 國內(nèi)*,謹防假冒!液晶觸摸屏操作,PLC程序控制,控制箱體外觀及功能設(shè)計已申請,控制系統(tǒng)可控制汞燈,氙燈,金鹵燈等各種實驗光源的點亮,閉合,并且支持燈源穩(wěn)定時間設(shè)置,10.1吋液晶顯示屏實時顯示光源功率、電流、電壓等實驗重要參數(shù),給您的實驗帶來*的方便! | 按鈕操作。只能簡單實現(xiàn)光源的點亮及關(guān)閉。 |
釜體材質(zhì) | 標配316L不銹鋼,另有鈦材,鋯材,蒙乃爾合金,哈氏合金等可選 | 普通不銹鋼 |
通光孔設(shè)置 | 防霧耐壓紫外石英視窗,通光孔徑30mm,通光率在92%以上??蛇x配藍寶石材質(zhì)或配鍍膜透光耐壓視鏡。 | 石英材質(zhì) |
溫度設(shè)置 | 采用PID程序控制溫度,控溫范圍:室溫-300℃,另有-30℃-280℃溫度可定做。*環(huán)繞式加熱裝置,保證光化學(xué)反應(yīng)中釜內(nèi)各部分物料的溫度均勻性。 | 控溫均勻性不能保證。 |
壓力設(shè)置 | 標準工作壓力10mpa以內(nèi),設(shè)計壓力為12.5mpa。釜體配壓力表及安全泄壓裝置保證反應(yīng)安全. | 壓力一般在3mpa,沒有嚴格的試壓標準及規(guī)范 |
攪拌控制 | 液晶觸摸屏控制,轉(zhuǎn)速數(shù)字顯示,可控可調(diào)。速度:0-1500rpm巖征公司的攪拌集成度高,可控可顯。 | 國內(nèi)廠家兩種情況,一種是不帶攪拌,一種是釜底放置在磁力攪拌器上 |
通氣設(shè)置 | 光化學(xué)釜蓋設(shè)置有通氣口,可實現(xiàn)光照反應(yīng)在真空負壓下反應(yīng),通氮氣反應(yīng),通氧氣反應(yīng),通其他氣體反應(yīng)等。配高溫高壓進口通氣閥門,可通多路氣體。 | 可通低壓氣體,不可多路通氣。 |
取樣設(shè)置 | 在光催化高溫高壓情況下(250℃、10mpa),巖征公司*帶壓取液相物料設(shè)計,可以在不終止反應(yīng)情況下進行手動取樣,在線分析。 | 在低溫低壓的情況下,(常溫、0.5mpa)少數(shù)廠家可以實現(xiàn)這個功能。 |