光熱催化微反裝置適用于光熱協(xié)同催化、光催化催化劑的評價及篩選，可做光催化的反應動力學、反應歷程等方面的研究。主要應用到高溫光熱催化反應，光熱協(xié)同催化，具體可用于半導體材料的合成燒結、催化劑材料的制備、催化劑材料的活性評價、光解水制氫、光解水制氧、二氧化碳還原、氣相光催化、甲醛氣體的光催化降解、VOCs、NOx、SOx、固氮等領域。

   

   

 

 

 

 

 

 

 

光熱催化微反裝置采用石英反應器，可滿足透光的要求，能進行高溫的實驗。系統(tǒng)采用加熱爐給反應器加熱，可保證反應過程中溫度的穩(wěn)定。
光熱催化微反裝置設計為三條氣路進料，配有1路氣體吹掃，同時預留1路液路接口（可定量加入所需液體原料）。系統(tǒng)包括：進料穩(wěn)流系統(tǒng)、反應恒溫系統(tǒng)，產物收集系統(tǒng)、控制系統(tǒng)。
系統(tǒng)柜體采用鋁型材制作，采用配套的螺栓、螺母固定件，美觀大方，維修拆卸方便。與管線連接處采用雙卡套接頭，更換反應器即可做高壓實驗和常規(guī)熱催化反應。

技術參數
1.進料系統(tǒng)：3路反應進氣（可擴展4路），默認流量100mL/min；氣體流量控制精度：±1%；配有1路吹掃氣；配有1路液路接口。統(tǒng)裝有配氣出口，可單獨做為配氣系統(tǒng)使用。
2.反應器（1） ：操作壓力： 微正壓（主要用于克服系統(tǒng)的壓力降）；設計溫度：≤800℃，配程序控溫，開式加熱爐；設計壓力：常壓, <0.6Mpa，反應區(qū)可恒定壓力；催化劑裝填量：0.1mg---100mg；材質：石英玻璃。（反應器2）:操作壓力：≤5mpa,設計溫度350℃ 材質：316Lor 哈氏合金
3.參數指標：壓力顯示精度：±0.01MPa；溫度顯示精度：±0.1℃；溫度控制精度：±1℃；流量控制精度：±1%F.S
4.控制系統(tǒng)：系統(tǒng)采用控制模塊加觸屏計算機（含）聯(lián)合控制，在觸屏計算機上可實現(xiàn)*儀表功能操作如實時讀取測量值、給定值、設置參數、自動/手動切換、啟動運行/停止程序，并具備數據存儲和導出功能。
5.過程監(jiān)視控制：實現(xiàn)對反應器的溫度、氣體流量的控制和顯示。實現(xiàn)對反應過程中壓力和反應器床層溫度的監(jiān)視。
6.實現(xiàn)對溫度、壓力的越限報警及連鎖安全保護。溫度為兩級報警，溫度高于*設定值時聲光報警，高于第二設定值時自動停止加熱；壓力高于*設定值時聲光報警，高于第二設定值時停止進料。
7.現(xiàn)場顯示：反應器進口設有1塊精細壓力表，用于實時顯示當前反應器的反應壓力，同時匹配數顯壓力傳感器控制屏顯示。
8.控制界面：控制界面有帶控制點的控制流程圖、參數設置表、程序升溫設置、報警窗口、歷史數據以及各控制點的實時曲線和歷史曲線，歷史曲線保留時間長。