詳細介紹
小型真空甩帶機 非晶微晶薄帶制備裝置的設(shè)備原理
SDM-0.02在高真空條件下將熔融態(tài)金屬或合金噴射到高速旋轉(zhuǎn)的銅輥上,令其快速冷卻以得到薄帶。由于這一冷卻速度非???,可以達到104K/秒-106K/秒數(shù)量級,從而能夠在凝固時繼續(xù)保持其液態(tài)的無序結(jié)構(gòu),抑制晶化,得到非晶態(tài)壓穩(wěn)材料。而通常熔化的金屬或合金冷卻到玻璃轉(zhuǎn)變溫度以下時,會發(fā)生形核和晶化,無法得到壓穩(wěn)材料。
小型真空甩帶機 非晶微晶薄帶制備裝置技術(shù)參數(shù)
1、樣品熔煉量: 20g;
2、輥輪尺寸: φ 200mmx40;
3、銅棍速度: 0-3000r/min;
4、真空度:優(yōu)于6. 67x10-3Pa;
5、熔煉電源功率: 15KW;
6、熔煉坩堝: 石英;
7、條帶寬度: 1-10mm;
8、真空腔尺寸: 300X 300X 480mm (L*W*H)
9、設(shè)備尺寸: 620*560*780m (L*W*H)
10、標配:主機及感應(yīng)熔煉電源
設(shè)備工程條件
1、設(shè)備總功率: 18Kw
2、總進線要求:三相,380V, 50Hz
3、設(shè)備總重量:^ 220Kg
4、設(shè)備占地面積: 1000*600*700mm (長*寬*高)
典型應(yīng)用
熔態(tài)單輥旋淬法制備條帶非晶材料,以及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進行新材料的科研