產(chǎn)品簡(jiǎn)介
微負(fù)壓氬氣氣氛條件下,采用等離子體加熱原理熔煉制備熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。 適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
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微負(fù)壓氬氣氣氛條件下,采用等離子體加熱原理熔煉制備熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。 適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。
配有真空泵系統(tǒng),用于在加熱前抽出爐膛內(nèi)的氧氣。抽真空后會(huì)再用惰性氣體洗爐,使?fàn)t罐內(nèi)有純凈的氬氣氣氛。在氧氣的含量盡可能被降低后,通入氬氣氣體至微負(fù)壓,熔煉工藝啟動(dòng)。氣氛下的溫度是3000攝氏度。如有需要,可實(shí)現(xiàn)爐內(nèi)樣品真空吸鑄功能和磁攪拌功能,熔煉過(guò)程中可手動(dòng)控制機(jī)械手?jǐn)嚢锠t料。
優(yōu)勢(shì)
• 桌面式設(shè)計(jì),貼合實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用需求 • 可在多種氣氛條件下熔煉
• 熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金 • 升溫迅速
• 可實(shí)現(xiàn)爐內(nèi)樣品真空吸鑄 • 上電極可360度自由旋轉(zhuǎn)
• 可同時(shí)熔煉多個(gè)樣品
典型應(yīng)用
廣泛應(yīng)用于高純金屬,難熔金屬,半導(dǎo)體材料及放射性材料的冶煉及稀土材料的熔煉。
坩堝容量 4個(gè)熔煉合金工位5~10g,1個(gè)吸鑄工位20g(可定制)
可用空間 Φ120*120直徑x深 [mm]
溫度值 3000氣氛時(shí)的溫度 [°C]
電氣參數(shù) 15Kw功率[KW]
220(2P)電壓 [V]
70A電流(A)
真空 (可選項(xiàng)) 10-2tor至10-6tor,真空度取決于真空泵
保護(hù)氣體 氬氣
控制器 手動(dòng)模擬屏控制
手動(dòng)按鈕控制.