詳細介紹
磁懸浮熔煉爐
磁懸浮熔煉爐是在真空或保護氣氛條件下對金屬材料進行熔煉處理,利用電磁力使爐料半懸浮,熔池與坩堝壁保持非接觸,使爐料不受坩堝材料的污染。有效地用于活潑金屬、高熔點金屬、放射性材料及其合金等的熔煉。
配有真空泵系統(tǒng),用于在加熱前抽出爐膛內的氧氣。為了保證盡可能低的氧含量,使爐罐內有純凈的氣氛或者真空環(huán)境。在氧氣的含量盡可能被降低后,通入惰性氣體至微負壓或者真空環(huán)境,熔煉工藝啟動。氣氛下的溫度是2200攝氏度。
優(yōu)勢
• 緊湊設計貼合實驗室應用需求 • 可在多種氣氛條件下熔煉
• 升溫迅速 • 排除坩堝對熔煉材料的污染
• 熔煉后合金成分均勻 • 熔煉后樣品純度高
• 可鍋底成型與旋轉澆鑄兩種鑄造形式
典型應用
♦ 活潑金屬和合金的制備 ♦ 對純度要求特別高的金屬和合金的制備
♦ 對成分精度要求特別高的合金和金屬間化合物的制備
♦ 熔點接近和超過2000℃的難熔金屬和合金及貴金屬和合金的制備材料科研工作
♦ 對材料純度、成分精確性和均勻性要求高,期望排除雜質和其它
可用空間
| Φ100*150,Φ200*200,Φ300*300,Φ400*400直徑x深 [mm]
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溫度值
| 0~2000℃(根據(jù)材料性能確定)紅外測溫 |
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電氣參數(shù) | 15~100Kw功率[KW] |
380(3P)電壓 [V] | |
真空(可選項) | 10-2tor至10-6tor,真空度取決于真空泵
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坩堝容量 | 20g,100g,250g,500g(以鈦標定)
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保護氣體
| 氮氣或氬氣,其他氣體請聯(lián)系廠家
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控制器
| 觸摸屏控制 |
手動模擬屏控制 | |
鑄造方式 | 鍋底成型與旋轉澆鑄 |