高真空CVD管式爐

TN-G1100ZC高真空CVD管式爐

該儀器是一個(gè)三溫區(qū)真空管式爐主要用于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)等試驗(yàn)和小批量生產(chǎn)之用。主要用于電子陶瓷產(chǎn)品的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e（CVD）工藝等。

儀器的控制系統(tǒng)，采用雙層風(fēng)冷結(jié)構(gòu)；爐膛采用高純氧化鋁纖維真空吸附一次成型；加熱元件為進(jìn)口電阻絲，配有真空裝置，可在多種氣氛下工作，大大提高了其使用范圍。該爐具有使用溫度高，操作簡(jiǎn)單，維修方便等特點(diǎn)，可廣泛用于冶金，機(jī)械，輕工，商檢，高等院校及科研部門(mén)。玻璃封裝、陶瓷電子元件、磁性材料、粉末冶金等產(chǎn)品的排膠，預(yù)燒和燒成，智能高溫箱式爐，也可用于稀土發(fā)光材料及其他材料的熱處理工藝。

具有操作容易，安全可靠，控溫精度高（專家PID控制），保溫效果好，溫度范圍大，爐膛溫度均勻性高，溫區(qū)多，可通氣泵，抽真空等特點(diǎn)。

TN-G1100ZC高真空CVD管式爐爐體采用數(shù)控機(jī)床加工，經(jīng)拋光、打磨、酸洗、磷化、噴涂塑粉、高溫烘烤等制作而成具備了抗氧化、耐酸堿、耐腐蝕、耐高溫、容易清理。