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[供應(yīng)]GR/HS-WDI-北京位錯(cuò)層錯(cuò)劃痕測(cè)定儀
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  • GR/HS-WDI-北京位錯(cuò)層錯(cuò)劃痕測(cè)定儀
貨物所在地:
北京北京市
產(chǎn)地:
北京
更新時(shí)間:
2022-01-16 21:00:07
有效期:
2022年1月16日 -- 2022年7月16日
已獲點(diǎn)擊:
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北京位錯(cuò)層錯(cuò)劃痕測(cè)定儀硅片缺陷觀測(cè)儀(HS-WDI),于對(duì)硅片的缺陷進(jìn)行觀察,效果非常明顯,包括肉眼無(wú)法觀測(cè)的位錯(cuò)、層錯(cuò)、劃痕、崩邊等。

實(shí)時(shí)對(duì)圖像進(jìn)行分析、測(cè)量和統(tǒng)計(jì),提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲(chǔ)設(shè)備,能更好的觀測(cè)和保存研究結(jié)果;

詳細(xì)介紹

硅片缺陷觀測(cè)儀 位錯(cuò)層錯(cuò)劃痕測(cè)定儀

型號(hào):GR/HS-WDI

北京位錯(cuò)層錯(cuò)劃痕測(cè)定儀硅片缺陷觀測(cè)儀(HS-WDI),于對(duì)硅片的缺陷進(jìn)行觀察,效果非常明顯,包括肉眼無(wú)法觀測(cè)的位錯(cuò)、層錯(cuò)、劃痕、崩邊等。

實(shí)時(shí)對(duì)圖像進(jìn)行分析、測(cè)量和統(tǒng)計(jì),提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲(chǔ)設(shè)備,能更好的觀測(cè)和保存研究結(jié)果;產(chǎn)品特點(diǎn)

北京位錯(cuò)層錯(cuò)劃痕測(cè)定儀適用于對(duì)硅片的缺陷觀察效果,非常明顯,包括肉眼無(wú)法觀測(cè)的位錯(cuò)、層錯(cuò)、劃痕、崩邊等;
■使硅片缺陷觀察工作簡(jiǎn)單化,準(zhǔn)確化,同時(shí)極大程度降低此項(xiàng)工作強(qiáng)度;
實(shí)時(shí)對(duì)圖像進(jìn)行分析、測(cè)量和統(tǒng)計(jì),提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲(chǔ)設(shè)備,能更好的觀測(cè)和保存研究結(jié)果;
■使用 1/2"CMOS 感光芯片,具有體積小,技術(shù)*,像素較高, 成像清晰 、線條細(xì)膩、色彩豐富;
■傳輸接口為 USB2.0 高速接口, 軟件模塊化設(shè)計(jì) ;
■有效分辨率為 200 萬(wàn)像素;
■所配軟件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系統(tǒng)。



推薦工作條件

■溫度:23±2℃
■濕度:60%~70%
■無(wú)強(qiáng)磁場(chǎng)、不與高頻設(shè)備鄰近
硅片缺陷觀測(cè)儀(HS-WDI),于對(duì)硅片的缺陷進(jìn)行觀察,效果非常明顯,包括肉眼無(wú)法觀測(cè)的位錯(cuò)、層錯(cuò)、劃痕、崩邊等。

實(shí)時(shí)對(duì)圖像進(jìn)行分析、測(cè)量和統(tǒng)計(jì),提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲(chǔ)設(shè)備,能更好的觀測(cè)和保存研究結(jié)果;產(chǎn)品特點(diǎn)

■適用于對(duì)硅片的缺陷觀察效果,非常明顯,包括肉眼無(wú)法觀測(cè)的位錯(cuò)、層錯(cuò)、劃痕、崩邊等;
■使硅片缺陷觀察工作簡(jiǎn)單化,準(zhǔn)確化,同時(shí)極大程度降低此項(xiàng)工作強(qiáng)度;
■實(shí)時(shí)對(duì)圖像進(jìn)行分析、測(cè)量和統(tǒng)計(jì),提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲(chǔ)設(shè)備,能更好的觀測(cè)和保存研究結(jié)果;
■使用 1/2"CMOS 感光芯片,具有體積小,技術(shù)*,像素較高, 成像清晰 、線條細(xì)膩、色彩豐富;
■傳輸接口為 USB2.0 高速接口, 軟件模塊化設(shè)計(jì) ;
■有效分辨率為 200 萬(wàn)像素;
■所配軟件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系統(tǒng)。



推薦工作條件

■溫度:23±2℃
■濕度:60%~70%
■無(wú)強(qiáng)磁場(chǎng)、不與高頻設(shè)備鄰近硅片缺陷觀測(cè)儀(HS-WDI),于對(duì)硅片的缺陷進(jìn)行觀察,效果非常明顯,包括肉眼無(wú)法觀測(cè)的位錯(cuò)、層錯(cuò)、劃痕、崩邊等。

實(shí)時(shí)對(duì)圖像進(jìn)行分析、測(cè)量和統(tǒng)計(jì),提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲(chǔ)設(shè)備,能更好的觀測(cè)和保存研究結(jié)果;產(chǎn)品特點(diǎn)

■適用于對(duì)硅片的缺陷觀察效果,非常明顯,包括肉眼無(wú)法觀測(cè)的位錯(cuò)、層錯(cuò)、劃痕、崩邊等;
■使硅片缺陷觀察工作簡(jiǎn)單化,準(zhǔn)確化,同時(shí)極大程度降低此項(xiàng)工作強(qiáng)度;
■實(shí)時(shí)對(duì)圖像進(jìn)行分析、測(cè)量和統(tǒng)計(jì),提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲(chǔ)設(shè)備,能更好的觀測(cè)和保存研究結(jié)果;
■使用 1/2"CMOS 感光芯片,具有體積小,技術(shù)*,像素較高, 成像清晰 、線條細(xì)膩、色彩豐富;
■傳輸接口為 USB2.0 高速接口, 軟件模塊化設(shè)計(jì) ;
■有效分辨率為 200 萬(wàn)像素;
■所配軟件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系統(tǒng)。



推薦工作條件

■溫度:23±2℃
■濕度:60%~70%
■無(wú)強(qiáng)磁場(chǎng)、不與高頻設(shè)備鄰近

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