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Leica EM ACE900 冷凍鍍膜技術(shù)

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更新時間:2019-01-08 14:27:27瀏覽次數(shù):470

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產(chǎn)品簡介

價格區(qū)間 面議 儀器種類 冷場發(fā)射
Leica EM ACE900冷凍斷裂系統(tǒng)是一款制樣系統(tǒng)。在一臺儀器中對樣品完成冷凍斷裂、冷凍蝕刻和電子束鍍膜。通過旋轉(zhuǎn)冷凍式載臺,利用電子束進行高分辨率碳/金屬復合鍍膜,適用于任何TEM和SEM分析,可提供靈活的投影選擇。 通過用于樣品和刀具轉(zhuǎn)移的真空鎖以及控制每個電子束源的閘閥,儀器可始終保持真空狀態(tài),確??焖?、清潔的工作條件。

詳細介紹

Leica EM ACE900 冷凍鍍膜技術(shù)

 Leica EM ACE900冷凍斷裂系統(tǒng)是一款制樣系統(tǒng)。在一臺儀器中對樣品完成冷凍斷裂、冷凍蝕刻和電子束鍍膜。通過旋轉(zhuǎn)冷凍式載臺,利用電子束進行高分辨率碳/金屬復合鍍膜,適用于任何TEM和SEM分析,可提供靈活的投影選擇。 通過用于樣品和刀具轉(zhuǎn)移的真空鎖以及控制每個電子束源的閘閥,儀器可始終保持真空狀態(tài),確??焖佟⑶鍧嵉墓ぷ鳁l件。

Leica EM ACE900冷凍斷裂系統(tǒng)

玻璃化冷凍結(jié)構(gòu)對環(huán)境影響極其敏感,需要對其加以保護以免形成假象。在條件下制備用于詳細圖像評估的樣品:

  • 在樣品周圍采取冷屏蔽措施,避免水分子在樣品上凍結(jié)
  • 在整個過程中精確控制溫度
  • 清潔的刀具 – 每次切片均使用干凈的刀片,避免污染
  • 及時、迅速的電子束鍍膜,捕獲詳細的表面信息
  • 在受保護的真空狀態(tài)下轉(zhuǎn)移到其他分析系統(tǒng)

所有這些要求均可在一臺儀器中實現(xiàn) - Leica EM ACE900!

為什么要進行冷凍斷裂和冷凍蝕刻?

  • 冷凍斷裂是一種將冷凍標本劈裂以露出其內(nèi)部結(jié)構(gòu)的技術(shù)。 
  • 冷凍蝕刻是指讓樣品表面的冰在真空中升華,以便露出原本無法觀察到的斷裂面細節(jié)。
  • 它們均屬敏感的技術(shù),可保留微小的細節(jié)以用于TEM和冷凍SEM分析。 

 

為什么選擇Leica EM ACE900?

Leica EM ACE900是一款制樣系統(tǒng)。 

在一臺儀器中對樣品完成冷凍斷裂、冷凍蝕刻和電子束鍍膜。

通過旋轉(zhuǎn)冷凍式載臺,利用電子束進行高分辨率碳/金屬復合鍍膜,適用于任何TEM和SEM分析,可提供靈活的投影選擇。 

通過用于樣品和刀具轉(zhuǎn)移的真空鎖以及控制每個電子束源的閘閥,儀器可始終保持真空狀態(tài),確??焖?、清潔的工作條件。

本儀器定會成為您重要的EM樣品處理工具。

 

研究潛力無限

Leica EM ACE900冷凍斷裂系統(tǒng)采用重新設(shè)計的冷卻概念、切片機、屏蔽、電子束、真空鎖,并且還可連接Leica EM VCT500,以便在整個冷凍SEM工作流程中對樣品加以保護。

內(nèi)置的現(xiàn)代用戶界面讓操作不再有任何障礙。

開創(chuàng)新視野

  • 生物細胞膜、細菌、細胞器、蛋白質(zhì)
  • 行業(yè)化妝品、食品、藥物
  • 材料研究乳膠、高分子聚合物、邊界層、納米結(jié)構(gòu)、液晶

 

對樣品進行冷凍斷裂以用于TEM(復型技術(shù))或冷凍SEM(通過Leica EM VCT500轉(zhuǎn)移)。

高再現(xiàn)性、妥善的標本保護

自動與手動操作(斷裂)的*結(jié)合讓制備具有*的再現(xiàn)性和靈活性。

所有相關(guān)參數(shù)都會被記錄。

大型冷凍屏蔽內(nèi)壁、樣品交換艙、優(yōu)化的樣品轉(zhuǎn)移和冷凍切片機將確保為樣品帶來*的保護。

 

操作無障礙 方便直觀的用戶界面。

Leica EM ACE900讓冷凍斷裂和冷凍蝕刻技術(shù)成為您實驗室的一項例行程序。

 

連接性 

將Leica EM VCT500真空冷凍轉(zhuǎn)移系統(tǒng)與Leica EM ACE900系統(tǒng)對接即可!

Leica EM VCT500底座可直接與Leica EM ACE900相連。

通過Leica EM VCT500穿梭工具,標本可在*條件下與儀器實現(xiàn)來回轉(zhuǎn)移,以便在冷凍SEM中進行終檢查。 

僅僅數(shù)小時即可獲得高分辨率的圖像。

 

快速操作

電子束源、樣品架和刀具都有相應(yīng)的真空鎖,以便快速處理樣品

無需花時間等待達到真空狀態(tài)。

 

環(huán)境責任 

我們的電子顯微鏡樣品制備系統(tǒng)不僅符合高的技術(shù)和人體工學要求,而且還非常注重減少環(huán)境影響。

這對Leica EM ACE900意味著什么

  • 冷卻過程中的LN2消耗量相比之前的儀器降低了約87%。
  • 每小時冷凍工作的LN2消耗量相比之前的儀器下降了約58%。
  • 達到操作要求的冷卻時間相比之前的儀器縮短了約33% 
  • 更小巧的儀器外形讓包裝、物流與裝運成本得以降低。 
  • 已實施環(huán)境管理體系DIN EN ISO 14001。 

 

我們采取負責任的行動并于2015年通過了環(huán)境管理的DIN EN ISO 14001認證

技術(shù)參數(shù)

電源電壓

100/115/230 V, 50/60 Hz

大電流

10 A

怠速時的功耗(泵送和冷卻時)

600 W

涂層過程中的功耗

1 KW

LN2

LN2消耗量(冷卻時)

at -150 °C ~ 2.5 l/h

LN2冷卻下來

- 2 l

LN2冷卻杜瓦容量

25 l, 35l

杜瓦泵,兩條線

可單獨控制

LN2軟管

絕緣,長度:90厘米

尺寸及重量

寬度

深度

高度

凈重

主機

705 mm

710 mm

640 mm

135公斤

帶顯微鏡

705 mm

900 mm

640 mm

 

VCT500接口

705 mm

710 mm

640 mm

 

VCT500真空傳輸艙

1450 mm

710 mm

640 mm

 

儀器臺

820 mm

780 mm

750 mm

 

LN2杜瓦瓶

Ø400 mm

 

800 mm

12 kg

LN2

Ø180 mm

 

720 mm

 

氮氣管尺寸:外徑6毫米,內(nèi)徑4毫米

 

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