給水廠處理工藝模擬實(shí)驗(yàn)裝置

型號：GZW072

實(shí)驗(yàn)設(shè)備名稱：給水廠處理工藝模擬實(shí)驗(yàn)裝置

 一、工作條件

輸入電壓：單相交流220V±10% 50Hz；工作環(huán)境：環(huán)境溫度5℃～+40℃ 相對濕度＜85%（25℃裝置容量：＜2kVA。

二、給水廠處理工藝模擬實(shí)驗(yàn)裝置實(shí)驗(yàn)?zāi)康?/span>

1、合理的凈水工藝是水廠保證供水水質(zhì)的關(guān)鍵，通過本實(shí)驗(yàn)學(xué)習(xí)給水處理方法和工藝流程。

2、學(xué)習(xí)根據(jù)原水水質(zhì)，采用不同的藥劑做混凝實(shí)驗(yàn)，確定合理的混凝劑品種和投藥量。

三、給水廠處理工藝模擬實(shí)驗(yàn)裝置產(chǎn)品特點(diǎn)

該給排水科學(xué)與工程實(shí)驗(yàn)裝置是泵前加藥，利用泵葉輪快速混合使藥劑快速均勻的分散道水中，立即溶解，發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使水中膠體雜質(zhì)形成微小絨體。這一過程可在10～30秒鐘內(nèi)完成（水溫低也不會超過2分鐘）。為使雜質(zhì)顆粒迅速下沉，還必須具有粒徑更大（0.6～1.0mm）、足夠的重量和強(qiáng)度（不易破碎）的顆粒。反應(yīng)階段的任務(wù)就是創(chuàng)造水力條件，使微絨能在一定實(shí)踐內(nèi)混凝成肉眼可見的“礬花”，而后進(jìn)入沉淀池內(nèi)沉淀。沉淀池采用60°斜板沉淀池，主要去除能夠通過量力沉降作用去除的懸浮顆粒。根據(jù)淺池理論，懸浮顆粒自由沉降時(shí)，池深越淺，則可截留的懸浮顆粒的沉速也越小，即可截留的懸浮顆粒就越大。這種理論適用于給排水處理的預(yù)沉池。 

四、技術(shù)參數(shù)

處理水量：1～2m3/h，進(jìn)水濁度：30～100，出水濁度：2～5，快濾池濾速：8～10m/h，設(shè)備占地面積：3200 mm×550mm，高位水塔總高：2000mm，電源：220V、功率：1200W。 

五、給水廠處理工藝模擬實(shí)驗(yàn)裝置規(guī)格與配置

配水箱1只、高嶺土配制箱1只。機(jī)械反應(yīng)斜板沉淀池1套、機(jī)械攪拌裝置1套、快濾池1套、PVC清水箱1只、有機(jī)玻璃高位水塔 1只、加藥箱（帶加藥泵1臺）1只、PVC排水槽1只、不銹鋼水泵2臺、轉(zhuǎn)子流量計(jì)1只、管道連接和球閥1批、金屬電控箱（鋅合金彈跳鎖） 1只；電壓表1只；漏電保護(hù)開關(guān)1套；按鈕開關(guān)1批；電源線1批；連接管道及球閥1批；可移動式不銹鋼實(shí)驗(yàn)臺架（配萬向輪及禁錮角）1批等。