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真空甩帶爐 MTS-0.5本設(shè)備采用熔態(tài)單輥旋淬法制備非晶薄帶，及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。本設(shè)備也可用于感應(yīng)熔煉澆鑄各類合金小試樣。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行新材料的科研與小批量的生產(chǎn)

詳細(xì)介紹

本設(shè)備采用熔態(tài)單輥旋淬法制備非晶薄帶，及真空噴鑄法制備大塊非晶材料。本設(shè)備也可用于感應(yīng)熔煉澆鑄各類合金小試樣。適用于大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行新材料的科研與小批量的生產(chǎn)

真空甩帶爐 MTS-0.5的詳細(xì)資料：

設(shè)備功能及應(yīng)用范圍：
甩帶功能：采用氣缸升降，可實(shí)現(xiàn)石英坩堝到銅輪的距離微調(diào)、自動(dòng)下降、延時(shí)0.1~5秒自動(dòng)噴氣，每次可甩5~50g非晶薄帶或顆粒；
熔煉澆注功能：可一次性熔煉50~500g金屬，熔煉好后可澆鑄在錠模內(nèi)
根據(jù)模具的尺寸，可以澆鑄直徑10mm~50mm的棒料或其他規(guī)格的成品；
4、可以澆鑄金屬錠或者直接制備非晶金屬棒或其他異形產(chǎn)品；
真空甩帶爐 MTS-0.5設(shè)備主要技術(shù)指標(biāo)說明：
1、采用直連泵加油擴(kuò)散泵（或者分子泵），用油擴(kuò)散泵真空度可達(dá)6.67×10-3Pa,用分子泵真空度可達(dá)6.67×10-4Pa，爐體全采用不銹鋼，并做拋光處理
設(shè)備主要結(jié)構(gòu)：
本設(shè)備主要由真空腔體、高頻加熱系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、噴鑄甩帶系統(tǒng)、熔煉澆注系統(tǒng)、充放氣系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等組成。

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