一、真空懸浮熔煉爐設(shè)備用途

真空磁懸浮熔煉方法，是近些年來飛速發(fā)展的一種熔煉方法，主要用來制取高熔點、高純度和極活潑的金屬，在冶金和高*材料制備等許多重要領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，顯示出良好的應(yīng)用前景。
二、真空懸浮熔煉爐設(shè)備特點

1·真空磁懸浮熔煉，料與坩堝無接觸冶煉，干凈無污染。

2·冶煉溫度高，溫度可達2500甚至以上，專門應(yīng)用于高熔點難熔金屬，活潑金屬等冶煉提純。

3·采用磁懸浮IGBT電源，配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝，懸浮效果好。

4·采用兩級分子泵控制系統(tǒng)真空度高，可達5.0*10-5pa。

三、主要技術(shù)參數(shù)

1、額定功率：65Kw

2、容量（以鈦計）：0.25Kg

3、輸入電源：3 相、 380 ± 10 ％、 50Hz

4、冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-4Pa