一·桌面式真空高頻熔煉爐小型真空熔煉爐設(shè)備用途
 主要供大專院校及科研單位等在真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼、鎳鈷合金、稀土釹鐵錋等）的熔煉處理，也可進(jìn)行合金鋼的真空精煉處理及精密鑄造。本設(shè)備采用溫控儀表控制電源加熱，測(cè)溫采用鉑銠熱電偶，溫度更加，更加節(jié)能。
 
二·桌面式真空高頻熔煉爐小型真空熔煉爐真空高頻熔煉爐產(chǎn)品特點(diǎn)
1·熔化速度快，加裝保溫套溫度可達(dá)到2100℃
2·可選配程序升溫控溫，根據(jù)您的工藝要求設(shè)定好升溫或者降溫曲線，設(shè)備會(huì)自動(dòng)按照此工藝進(jìn)行加熱或降溫
3· 帶傾倒裝置，可將熔好的試樣傾倒在事先準(zhǔn)備好的錠模內(nèi)，澆注出您想要的樣品形狀
3· 可在多種氣氛條件下熔煉：空氣狀態(tài)下、保護(hù)氣氛條件下和高真空條件下熔煉，買(mǎi)一種設(shè)備，實(shí)現(xiàn)多種功能；節(jié)約您的成本。
5· 爐體全不銹鋼結(jié)構(gòu)，并帶水冷，保證外殼溫度低于35℃，保護(hù)您的人身安全
 三·桌面式真空高頻熔煉爐小型真空熔煉爐真空高頻熔煉爐設(shè)備參數(shù)
1· 坩堝容量：200g
2· 冷態(tài)極限真空度：6.67×10E-2Pa(機(jī)械泵+羅茨泵）6.67×10E-3Pa(機(jī)械泵+擴(kuò)散泵）5.0×10E-4Pa(機(jī)械泵+分子泵）
3· 設(shè)備總功率：10Kw；電源電壓：?jiǎn)蜗?20V,50Hz
4· 外形尺寸：1000×550×800mm(L×W×H)
5· 設(shè)備總重量：100Kg