EXPEC 7350-三重四極桿ICP-MS性能優(yōu)勢

出色的信噪比

垂直離子光學設計和二次偏轉設計，可將離子束中所有中性組分更好地去除，更大限度地保證分析離子進入到四極桿中，具有杰出的過濾功能，降低背景和干擾，大幅度提高信噪比，獲得準確、可靠的結果。

優(yōu)異的耐基體性能

創(chuàng)新的垂直炬管設計、直角離子光學設計、瀑布流式進氣碰撞反應池、強有力的自激式全固態(tài)ICP離子源和氬氣在線稀釋等關鍵技術確保EXPEC 7350具有更佳的耐基體能力，高鹽樣品及高揮發(fā)性樣品均可直接進樣分析。

杰出的抗干擾能力

通過在碰撞反應池前添加一個四極桿質量過濾器（Q1），將來自等離子體和樣品基體的干擾離子阻止在反應池外，大大提高了消除干擾的能力，即使是面對磷、硫等干擾強烈的元素，也可達到ppt級的檢出限，是痕量元素分析的解決方案。

強大的應用能力

可搭配全自動石墨/微波、全自動離子交換、高效液相色譜、固體直接進樣、大氣顆粒物在線進樣、快速進樣、有機進樣等豐富的附件系統(tǒng)，滿足各個應用場景的分析需求。

EXPEC 7350-三重四極桿ICP-MS應用領域

環(huán)境保護：包括自來水，地表水 ，地下水，海水以及各種土壤、污泥 、廢棄物等的分析

食品安全：衛(wèi)生防疫、商檢、煙及酒等食品的質量控制，鑒別真?zhèn)蔚?/span>

臨床醫(yī)藥：頭發(fā)、血樣、尿樣、生物組織的分析以及蛋白質、酶等的生物機理研究，藥品質量控制等

合金材料：鋼鐵合金、玻璃、陶瓷和礦冶等樣品分析

半導體：高純試劑，高純金屬，Si、CaAs晶片的超痕量雜質，光刻膠和清洗劑等高基體不穩(wěn)定樣品分析