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高靈敏ECL發(fā)光試劑1
  • 高靈敏ECL發(fā)光試劑1
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地: 上海

更新時(shí)間:2024-09-07 21:00:06

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高靈敏ECL發(fā)光試劑產(chǎn)品組成:
超敏ECL發(fā)光劑/增強(qiáng)劑,50ml
超敏ECL過(guò)氧化物/穩(wěn)定劑,50ml

高靈敏ECL發(fā)光試劑 Western Chemiluminescent HRP Substrate

Cat No. KTSM1901

簡(jiǎn)介:
本ECL試劑盒是基于魯米諾(luminol)的高靈敏底物體系,用于在免疫印跡實(shí)驗(yàn)中檢測(cè)辣根過(guò)物氧化酶(HRP)。試劑盒中的增強(qiáng)劑使得本試劑盒能檢測(cè)fg至pg級(jí)抗原,背景干凈??梢允褂肵光片或化學(xué)發(fā)光成像儀進(jìn)行檢測(cè)。由于本產(chǎn)品靈敏度高,檢測(cè)豐度高的抗原,如actin等時(shí),應(yīng)適當(dāng)降低一抗及二抗的濃度。


高靈敏ECL發(fā)光試劑運(yùn)輸和保存條件:
室溫運(yùn)輸。收到試劑后請(qǐng)避光,4度保存。室溫保存時(shí),底物可以穩(wěn)定保存6個(gè)月;4度保存時(shí),可以保存1年以上。

產(chǎn)品組成:
超敏ECL發(fā)光劑/增強(qiáng)劑,50ml
超敏ECL過(guò)氧化物/穩(wěn)定劑,50ml


高靈敏ECL發(fā)光試劑注意事項(xiàng):
1. 為獲得結(jié)果,請(qǐng)優(yōu)化實(shí)驗(yàn)條件,包括樣品,封閉試劑,洗滌液,一抗,二抗的選擇及孵育時(shí)間等。
2. 在轉(zhuǎn)膜,封閉,洗滌及一抗二抗孵育過(guò)程中防止膜干掉。
3. 為保證結(jié)果,請(qǐng)使用使用脫色搖床等設(shè)備,充分洗滌一抗二抗等。
4. 由于抑制HRP的活性,請(qǐng)盡量避免使用,尤其在二抗孵育時(shí),不能加疊。
5. 與膜接觸時(shí),請(qǐng)使用干凈的手套或鑷子,避免蛋白污染。
6. 底物盡量現(xiàn)配現(xiàn)用。在室溫條件下,配制好的底物可以穩(wěn)定8小時(shí)。避免強(qiáng)光照射底物。短時(shí)間日光燈照射不影響配制好的底物的效果。


高靈敏ECL發(fā)光試劑使用方法(X光片):
1. 根據(jù)樣品中抗原的濃度及一抗的效價(jià),用一抗孵育印跡膜室溫2小時(shí)或4度過(guò)夜。
2. 充分洗滌后,二抗室溫孵育1小時(shí)。再充分洗滌后。
3. 按需要量將發(fā)光劑和過(guò)氧化物按1:1比例充分混勻得到發(fā)光物工作液。按1平方厘米印跡膜0.1ml工作液準(zhǔn)備。
4. 棄去洗滌液,將工作液加到印跡膜上,孵育5分鐘。
5. 將印跡膜取出,并吸去多余的工作液。
6. 將印跡膜放置于兩層干凈的保鮮膜或塑料保護(hù)殼之間,去除其中的氣泡。
7. 將印跡膜吸附蛋白的面向上放置,置于X光片盒中,在暗室內(nèi)壓上X光片適當(dāng)?shù)臅r(shí)間。進(jìn)行顯影和定影。

使用方法(化學(xué)發(fā)光成像儀):
1. 第1-5步與X光片方法相同。
2. 將印跡膜放置于成像儀的合適位置。
3. 選擇信號(hào)累積模式采集信號(hào)。

常見(jiàn)問(wèn)題,可能原因及解決方案

膠片反相(白色條帶,黑色背景)系統(tǒng)中HRP過(guò)量稀釋HRP標(biāo)記物至少10倍以上
膜上出現(xiàn)棕色或黃色條帶
暗室中看到強(qiáng)烈發(fā)光
發(fā)光信號(hào)持續(xù)時(shí)間過(guò)短
信號(hào)較弱或者無(wú)信號(hào)發(fā)光反應(yīng)系統(tǒng)中HRP過(guò)多,消耗底物過(guò)快,引起信號(hào)迅速降低稀釋HRP標(biāo)記物至少10倍以上
抗原/抗體量不夠增加抗原/抗體使用量
蛋白轉(zhuǎn)移率低優(yōu)化轉(zhuǎn)移系統(tǒng)
高背景系統(tǒng)中HRP過(guò)量稀釋HRP標(biāo)記物至少10倍以上
封閉不足優(yōu)化封閉程序
封閉試劑選擇不當(dāng)選擇另一種封閉試劑
沖洗不充分增加沖洗時(shí)間,次數(shù)
曝光過(guò)度減少曝光時(shí)間
抗原/抗體濃度過(guò)高降低抗原/抗體使用濃度
蛋白條帶為點(diǎn)狀蛋白轉(zhuǎn)移失敗優(yōu)化轉(zhuǎn)移過(guò)程
膜未平衡按照說(shuō)明書(shū)處理膜
膠片與膜之間有氣泡曝光前去除所有氣泡
出現(xiàn)非特異條帶
(高背景、信號(hào)維持時(shí)間較短)
系統(tǒng)中HRP過(guò)多稀釋HRP標(biāo)記物
出現(xiàn)非特異條帶
(背景干凈信號(hào)維持時(shí)間正常)
一抗用量過(guò)多進(jìn)一步稀釋一抗
SDS導(dǎo)致非特異結(jié)合在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中避免使用SDS


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