沃特世waters Xevo G2-S TOF 氮?dú)獍l(fā)生器

2010年Flairmo*實(shí)驗(yàn)室空壓機(jī)問世，基于在氣體制造及純化技術(shù)上建立起來的強(qiáng)大技術(shù)團(tuán)隊(duì)和專業(yè)知識(shí)背景，F(xiàn)lairmo 不斷開展對(duì)空氣分離技術(shù)的開發(fā)及創(chuàng)造性研究工作，現(xiàn)已成功發(fā)展成為現(xiàn)今世界上重要的氣體發(fā)生器制造商之一。公司總部設(shè)在丹麥奧爾堡。10多年來Flairmo一直從事壓縮機(jī)和氮?dú)獍l(fā)生器的制造，產(chǎn)品滿足各類實(shí)驗(yàn)室、科學(xué)儀器對(duì)高純氫氣、高純氮?dú)?、零?jí)空氣、大流量氮?dú)獾葰怏w的需求，涉及醫(yī)療，實(shí)驗(yàn)室，食品，工業(yè)等各個(gè)行業(yè)。

型號(hào)：N2G 40 – A200.6

氮?dú)饧兌?9.5%，流量40L/min，內(nèi)置空壓機(jī)，壁掛式/柜式箱體，整套系統(tǒng)占地面積不超過0.4平方米，質(zhì)譜配套氮?dú)獍l(fā)生器。適配Agilent安捷倫，Thermo Fisher賽默飛，AB SCIEX，沃特世Waters ，布魯克 Bruker，島津Shimadzu，PerkinElmer珀金埃爾默等品牌液質(zhì)聯(lián)用儀LC-MS。

提供3年10000小時(shí)質(zhì)保服務(wù)。

所用技術(shù) PSA

流速        40 SLPM

出口壓力 0   到 7 barg / 0 到   100 psig

空壓機(jī)     內(nèi)置

操作環(huán)境溫度          5°C   到40°C

工作環(huán)境濕度          相對(duì)濕度≤   70% , 不冷凝

高海拔     2000 米

尺寸        （長(zhǎng)x寬x高 ）： 615 x 630 x 860 mm

重量：110 kg

沃特世waters Xevo G2-S TOF 氮?dú)獍l(fā)生器

丹麥Flairmo*氮?dú)獍l(fā)生器專門為LCMS設(shè)計(jì)，采用先進(jìn)的PSA技術(shù)，將空氣壓縮機(jī)里的氣體導(dǎo)入碳分子篩，氧氣、二氧化碳、水份及其他雜質(zhì)在通過碳分子篩時(shí)被除去，只允許氮?dú)馔ㄟ^碳分子篩并進(jìn)入蓄氣池，在蓄氣池里進(jìn)行壓力和流速的調(diào)節(jié)后就可以與用氣設(shè)備相連。

Flairmo N2G40-A200.6系列氮?dú)獍l(fā)生器高配機(jī)型內(nèi)置氧濃度分析儀，可以實(shí)現(xiàn)純度在線顯示，報(bào)警等功能，并且可以用手機(jī)APP或者電腦程序?qū)嵤┻h(yuǎn)程監(jiān)測(cè)，機(jī)器的內(nèi)部控制結(jié)合氧濃度分析儀實(shí)現(xiàn)純度的真正可選可控，只會(huì)產(chǎn)出我們?cè)O(shè)定好需要的氮?dú)狻?/span>

Flairmo N2G40-A200.6系列氮?dú)獍l(fā)生器配備了LCD 觸摸顯示屏可以方便查看機(jī)器狀態(tài)和記錄，如開機(jī)次數(shù)，運(yùn)行時(shí)間，純度設(shè)置，純度報(bào)警，維修服務(wù)提醒等等。

與采用中空纖維膜技術(shù)對(duì)比

1、碳分子篩技術(shù)可實(shí)現(xiàn)自我凈化，不僅有效去除雜質(zhì)和碳?xì)浠衔?，而且得到的氮?dú)饧兌雀?，這就是為什么所有廠家氣相用氮?dú)獍l(fā)生器（因?yàn)榧兌纫筮_(dá)到99.999%）全部采用碳分子篩技術(shù)而不是膜分離技術(shù)。

2、膜分離技術(shù)，根據(jù)不同氣體在通過膜時(shí)的滲透屬性不同，將空氣中的氮?dú)夥蛛x出來，但通過膜的壓縮空氣即使之前經(jīng)過凈化也會(huì)存在一定的雜質(zhì)和碳?xì)浠衔铮@些雜質(zhì)會(huì)附著在膜上而不會(huì)*排除，在空氣濕度大的地方，膜的分離效率會(huì)不斷降低，純度和流速會(huì)逐漸降低.

3、碳分子篩技術(shù)更適宜于潮濕的空氣環(huán)境和高溫天氣；

時(shí)進(jìn)行定性和定量分析

Xevo

G2-S Tof專門為需要定性和定量分析復(fù)雜與具挑戰(zhàn)性樣品的科學(xué)家而設(shè)計(jì)。

StepWave

的離軸離子源技術(shù)提供了優(yōu)異的持久靈敏度

QuanTof

技術(shù)同時(shí)提供了*的與UPLC-兼容的質(zhì)譜分辨率，基質(zhì)耐受動(dòng)態(tài)范圍、定量分析性能、質(zhì)譜準(zhǔn)確性和分析速度UPLC/MSE數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)在一次分析中可以獲得復(fù)雜樣本的全面分析通用的離子源結(jié)構(gòu)提供了*泛的接口能力，可以用于大量的應(yīng)用領(lǐng)域IntelliStart保證了獲得可重現(xiàn)結(jié)果所需的最好系統(tǒng)性能和可用性簡(jiǎn)便易行升級(jí)至QTof從而獲取準(zhǔn)確MS/MS數(shù)據(jù)，使您的投資物有所值

StepWave離子光學(xué)技術(shù)

StepWave離子光學(xué)技術(shù)在降低常規(guī)維護(hù)需要的同時(shí)，大大提高了儀器的靈敏度。它以可能最大的效率從離子源傳輸離子，且主動(dòng)地過濾掉不必要的中性污染。MS信號(hào)明顯增加，由于儀器中關(guān)鍵組件可以長(zhǎng)期保持潔凈，因此您得出的定量分析結(jié)果更具有重現(xiàn)性，您的實(shí)驗(yàn)室工作效率會(huì)更高。

QuanTof 技術(shù)

QuanTof創(chuàng)新性的幾何形狀與離子檢測(cè)系統(tǒng)相結(jié)合，增強(qiáng)了設(shè)備的靈敏度，而且提供了*的與UPLC-兼容的質(zhì)譜分辨率，基質(zhì)耐受動(dòng)態(tài)范圍、定量分析性能、質(zhì)量精度和分析速度。

可以在不影響MS性能的情況下，識(shí)別并定量分析出復(fù)雜樣本基質(zhì)中最窄的色譜峰，使Xevo G2-S Tof與超高效LC

無縫對(duì)接，從而為解決您最復(fù)雜的科學(xué)難題提供一種有力的分析系統(tǒng)。

UPLC/MSE

UPLC/MSE 是一種簡(jiǎn)單且具有的數(shù)據(jù)采集方法，它可以在一次分析過程中，全面地分析類復(fù)雜樣本。它可以快速采集精確質(zhì)量數(shù)的前體離子和碎片離子信息，同時(shí)獲得樣本中各種可檢測(cè)物質(zhì)的準(zhǔn)確定量信息。

通用的離子源結(jié)構(gòu)

沃特世的通用離子源結(jié)構(gòu)，可以使您應(yīng)用目前*泛的離子化技術(shù)，同時(shí)也不失體驗(yàn)未來創(chuàng)新的機(jī)會(huì)。

所有離子源均可以快速更換，幾分鐘內(nèi)即可以使用。

IntelliStart 技術(shù)

Xevo G2-S Tof以采用了IntelliStart

技術(shù)為特點(diǎn)，它是一種可以自動(dòng)完成常規(guī)任務(wù)，保證可重現(xiàn)的UPLC/MS數(shù)據(jù)具有最高質(zhì)量的直觀界面。

IntelliStart可以自動(dòng)完成以下功能：

MS分辨率和校準(zhǔn)檢查

方便設(shè)置多種試驗(yàn)

預(yù)約LC/MS系統(tǒng)檢測(cè)

連續(xù)系統(tǒng)監(jiān)控