SQ型器皿清洗裝置微波罐溶樣罐燒杯
SQ型器皿清洗裝置微波罐溶樣罐燒杯適配我廠PFA溶樣罐(7、15、30、60ml)、鋼套消解罐內(nèi)襯(10ml等)、各廠家微波消解儀內(nèi)罐(如美國CEM、邁爾斯通、、屹堯、新儀、海能、新拓、萊伯泰科等廠家)、各類消解管、離心管、試管、燒杯、坩堝、試劑瓶等實驗室常用器皿以及石英罐。甚至用于ICP的霧化室和火炬管等的痕量清洗。
SQ型酸逆流器皿清洗裝置
一、 基本信息
1、名稱:酸逆流器皿清洗裝置,型號:SQ-210型 SQ-330型
2、清洗對象:適配我廠PFA溶樣罐(7、15、30、60ml)、鋼套消解罐內(nèi)襯(10ml等)、各廠家微波消解儀內(nèi)罐(如美國CEM、邁爾斯通、、屹堯、新儀、海能、新拓、萊伯泰科等廠家)、各類消解管、離心管、試管、燒杯、坩堝、試劑瓶等實驗室常用器皿以及石英罐。甚至用于ICP的霧化室和火炬管等的痕量清洗。
3、主要材質(zhì)
(1)腔體為高純所有與器皿接觸的部分均為高純實驗級PTFE材質(zhì)。
(2)加熱系統(tǒng)可按照客戶要求做成節(jié)能環(huán)保型的硅膠加熱片,功率為350W;或者是我公司的特氟龍加熱電熱板,功率為2000W。
二、工作原理
利用亞沸的HF 、HCL 、HNO3、高純水、堿類等等實驗室常用酸、堿等常用溶劑的熱蒸汽來清洗反應(yīng)管、試管、消解管、燒杯、坩堝、容量瓶等實驗室常用器皿。整個清洗過程是通過加熱板加熱產(chǎn)生的高純酸堿蒸氣對器皿的反復對流和冷凝淋洗作用下完成的,清洗器采用空氣冷卻而無需額外冷卻水,可以實現(xiàn)經(jīng)濟安全的過夜工作,與常規(guī)的清洗或酸泡方法相比,蒸汽清洗法的清洗效果更好、更加潔凈無污染。
三、儀器性能及特點
1、專業(yè)設(shè)計,結(jié)構(gòu)簡單,操作方便,操作人員無需培訓;
2、適用痕量分析器皿清洗,PFA及PTFE溶樣罐、微波消解罐內(nèi)罐、燒杯、消解管、試管等;
3、一次性處理量多達26、52、104個樣品(根據(jù)器皿大小而定),也可以根據(jù)器皿高矮設(shè)計成多層,更加高效,快捷;
4、清洗過程中酸用量少,且清洗后的酸可重復使用,多次循環(huán)清洗,節(jié)省成本;
5、密閉條件下進行酸蒸氣超凈清洗,防止實驗室污染;
6、只有100%超純的酸蒸汽接觸需要清洗的器皿表面,所有接觸部件均采用高純實驗級Teflon材料,保證的清潔與低的本底值;
7、表面污染物被清除后,干凈的器皿將不再接觸清洗過的溶劑——相比較酸缸浸泡,這是更為純凈的清洗。
四、特別說明:
1、清洗器皿外徑在30mm 及以內(nèi), 桶總高度:260mm, 桶外徑210mm, 一層26孔 (可做3層,即一次性可清洗78個樣品);
2、清洗器皿外徑在30mm 及以內(nèi), 桶總高度:280mm, 桶外徑330mm, 一層50孔(可做3層,即一次性可清洗150個樣品);
3、以上所說的樣品數(shù)量是以我廠10ml消解罐內(nèi)襯或PFA 15ml溶樣罐為參考,若是其他細長器皿,可根據(jù)實際長度設(shè)計層數(shù)和批次處理量;也可以按照客戶需求進行定向加工。
五、數(shù)據(jù)說明
PPb級的清洗結(jié)果利用酸蒸清洗系統(tǒng)清洗后,結(jié)果證明,含PPm級金屬污染的容器可以降低為PPb級。
ZH-酸純化器利用熱輻射原理使酸氣冷凝制備高純酸試劑
- 產(chǎn)品簡介:
酸純化器:又稱酸純化系統(tǒng),高純酸提純器,酸試劑提純器,高純酸蒸餾純化器等,實驗室工作中常常由于酸的純度較差,造成分析結(jié)果的偏差與錯誤。市售的超純酸往往由于價格較貴,很難滿足日常分析中對酸的大量需求。因此,提純優(yōu)化酸的質(zhì)量,是為經(jīng)濟可行的途徑,我廠的酸純化器可用于實驗室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機溶劑的純化,純化后的酸和Merck的一樣好,實驗后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。
二、工作原理:
酸純化器是利用熱輻射原理,保持液體溫度低于沸點溫度蒸發(fā),再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純試劑,廣泛應(yīng)用于樣品處理及分析實驗中。
三、 產(chǎn)品特點:
1、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測限需要及苛刻的分析應(yīng)用中提供實驗室級超純酸,所用容器均采用Teflon耐腐蝕無吸附塑料,可處理如HNO3、HCl、HF等實驗室的常用酸。
2、實驗證明將金屬雜質(zhì)含量約10ppb的酸經(jīng)過一次蒸餾后,金屬雜質(zhì)含量可以降低到0.01ppb左右。若對酸要求更高,可增加提純次數(shù)。
四、相關(guān)參數(shù):
型號 | CH-I 500ml | CH-II 1000ml | CH-Ⅲ 2000ml |
名稱 | 酸純化器 | 酸純化器 | 酸純化器 |
產(chǎn)酸率 | 30ml/h | 50ml/h | 70ml/h |
溫控方式 | PID溫控數(shù)顯 | PID溫控數(shù)顯 | PID溫控數(shù)顯 |
控溫精度 | ±1℃ | ±1℃ | ±1℃ |
材質(zhì) | FEP、PTFE、硅膠 | ||
電壓 | 220V/50Hz | ||
功率(W) | 350 | ||
優(yōu)勢 | 1.密閉環(huán)境下提純酸,不受環(huán)境污染,確保酸純度 | ||
2.純FEP、PTFE材質(zhì)制造,空白值低無腐蝕 | |||
3.技術(shù)先進,結(jié)構(gòu)合理,操作簡單,一鍵式操作,蒸干自我保護 | |||
4.提純過程中,少量酸氣逸出 | |||
5.節(jié)約成本,方便實驗:較短時間內(nèi)純化低成本的酸試劑以達到痕量分析要求 |
五、使用注意事項:
1、所有配件(控制器、電源線、加熱片等除外)放入按實驗要求一定濃度的酸液中浸泡,去除雜質(zhì)。
2、加酸前必須做好個人防護如:防濺眼鏡、防酸手套等(蒸水除外)。
【電子級酸】:
適用于半導體生產(chǎn)過程中所用產(chǎn)品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析,根據(jù)質(zhì)控的金屬元素含量的數(shù)量和含量,劃分為4個級別:MOS級,VLSI級,ULSI級,SLSI級
MOS級(EL級):控制十多個金屬元素,單項金屬元素雜質(zhì)控制在100PPb左右
VLSI級:控制三十多個金屬元素,單項金屬元素雜質(zhì)控制在10~100PPb
ULSI級:控制三十多個金屬元素,單項金屬元素雜質(zhì)控制在10PPb以下
SLSI級:控制三十多個金屬元素,單項金屬元素雜質(zhì)控制在1PPB以下
所謂的電子級酸,其實就是ppb或者ppt級的高純酸。
實驗數(shù)據(jù)(僅供參考):儀器:CH-I 酸純化器;試劑:優(yōu)級純的HF
蒸餾后,經(jīng)中國地質(zhì)大學地質(zhì)過程與礦產(chǎn)資源國家重點實驗室ICP-MS檢測出HF中雜質(zhì)的含量:
元素 | 測量濃度(ng/g=ppb) | 元素 | 測量濃度(ng/g=ppb) |
Be | <0.01 | Ba | <0.01 |
Mg | <0.02 | La | <0.01 |
Sc | <0.01 | Ce | <0.01 |
V | <0.01 | Pr | <0.01 |
Cr | <0.03 | Nd | <0.01 |
Mn | <0.01 | Eu | <0.01 |
Co | <0.01 | Gd | <0.01 |
Ni | <0.01 | Tb | <0.01 |
Zn | <0.02 | Er | <0.01 |
Ga | <0.01 | Tm | <0.01 |
Rb | <0.01 | Yb | <0.01 |
Sr | <0.02 | Lu | <0.01 |
Zr | <0.01 | Hf | <0.01 |
Cd | <0.01 | Pb | <0.01 |
Sn | <0.01 | Th | <0.01 |
Cs | <0.01 | U | <0.01 |
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