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目錄:深圳喬邦儀器有限公司>>電鍍鍍層膜厚分析儀>> Thick8000X光電鍍層測(cè)厚儀

Thick8000X光電鍍層測(cè)厚儀
  • Thick8000X光電鍍層測(cè)厚儀
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 所在地 深圳市
屬性

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更新時(shí)間:2024-04-27 14:34:09瀏覽次數(shù):732評(píng)價(jià)

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應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子,印刷包裝
Thick8000X光電鍍層測(cè)厚儀是一款快速、無(wú)損、準(zhǔn)確檢測(cè)鍍層厚度新型儀器。主要應(yīng)用于:金屬鍍層的厚度測(cè)量、電鍍液和鍍層含量的測(cè)定;黃金、鉑、銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè),可以檢測(cè)如鍍金、鍍鎳、鍍銅、鍍鉻、鎳鋅、鍍銀、鍍鈀等,多一次分析五層。

Thick8000X光電鍍層測(cè)厚儀

性能優(yōu)勢(shì)

 

精密的三維移動(dòng)平臺(tái)

的樣品觀測(cè)系統(tǒng)

*圖像識(shí)別 

輕松實(shí)現(xiàn)深槽樣品的檢測(cè)

四種微孔聚焦準(zhǔn)直器,自動(dòng)切換

雙重保護(hù)措施,實(shí)現(xiàn)無(wú)縫防撞

采用大面積高分辨率探測(cè)器,有效降低檢出限,提高測(cè)試精度

全自動(dòng)智能控制方式,一鍵式操作!

開(kāi)機(jī)自動(dòng)退出自檢、復(fù)位 

開(kāi)蓋自動(dòng)退出樣品臺(tái),升起Z軸測(cè)試平臺(tái),方便放樣 

關(guān)蓋推進(jìn)樣品臺(tái),下降Z軸測(cè)試平臺(tái)并自動(dòng)完成對(duì)焦 

直接點(diǎn)擊全景或局部景圖像選取測(cè)試點(diǎn) 

點(diǎn)擊軟件界面測(cè)試按鈕,自動(dòng)完成測(cè)試并顯示測(cè)試結(jié)果 

 

Thick8000X光電鍍層測(cè)厚儀技術(shù)指標(biāo)

 

分析元素范圍:從硫(S)到鈾(U) 

同時(shí)檢測(cè)元素:多24個(gè)元素,多達(dá)五層鍍層

檢出限:可達(dá)2ppm,薄可測(cè)試0.005μm

分析含量:一般為2ppm到99.9% 

鍍層厚度:一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)重復(fù)性:可達(dá)0.1%

穩(wěn)定性:可達(dá)0.1%

SDD探測(cè)器:分辨率低至135eV

采用*微孔準(zhǔn)直技術(shù),小孔徑達(dá)0.1mm,小光斑達(dá)0.1mm

樣品觀察:配備全景和局部?jī)蓚€(gè)工業(yè)高清攝像頭

準(zhǔn)直器:0.3×0.05mm、Ф0.1mm、Ф0.2mm與 

Ф0.3mm四種準(zhǔn)直器組合

儀器尺寸:690(W)x 575(D)x 660(H)mm

樣品室尺寸:520(W)x 395(D)x150(H)mm

樣品臺(tái)尺寸:393(W)x 258 (D)mm

X/Y/Z平臺(tái)移動(dòng)速度:額定速度200mm/s 速度333.3mm/s

X/Y/Z平臺(tái)重復(fù)定位精度 :小于0.1um

操作環(huán)境濕度:≤90%

操作環(huán)境溫度 15℃~30℃

 

應(yīng)用領(lǐng)域

 

X光電鍍層測(cè)厚儀主要是線路板、五金電鍍、首飾、端子等行業(yè)的應(yīng)用,廣泛應(yīng)用于電子電器廠、精密五金公司、電鍍加工企業(yè)、制冷企業(yè)等。

Thick800A型金屬鍍層測(cè)厚儀

 

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性能優(yōu)勢(shì)

 

鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)
高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)
良好的射線屏蔽作用
測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)
滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求
小φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求
高精度移動(dòng)平臺(tái)可定位測(cè)試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm
采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測(cè)試高度
定位激光確定定位光斑,確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊

 

技術(shù)指標(biāo)

 

相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型
多變量非線性回收程序
長(zhǎng)期工作穩(wěn)定性高
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃
元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)中間的任意金屬鍍層
一次可同時(shí)分析多達(dá)五層鍍層
薄可測(cè)試0.005μm
分析含量一般為2ppm到99.9%
鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)
任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源
儀器尺寸:576(W) x 495 (D) x 545(H) mm
重量:90 kg


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