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超純水制備系統(tǒng)在集成電路工廠應用中如何完善?

閱讀:1842      發(fā)布時間:2015-1-20
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   *,超純水中雜質會對器件帶來一系列的不利影響!所以,如何確定超純水系統(tǒng)流程以保證生產設備對超純水水質的要求就成為超純水系統(tǒng)所要解決的首要問題。
   集成電路工廠的純水制備系統(tǒng)應根據(jù)原水水質及工藝生產設備要求的超純水水質來確定,一般由下列4部分組成:預處理系統(tǒng)、一次純水處理系統(tǒng)、超純水制取系統(tǒng)、回收水系統(tǒng)
 預處理的目的是去除水中所含的懸浮物、膠體、高分子有機物等雜質。需要指出的是,活性炭對去除TOC有非常好的效果,但它也往往成為微生物的滋生地。因此,在預處理系統(tǒng)中采用活性炭處理單元時,應將活性炭處理單元的進水調成酸性,以防止微生物滋生。
 在超純水制備的一次純水處理系統(tǒng)中,往往要使用反滲透裝置(RO),且反滲透膜多以交聯(lián)芳香族聚酰胺復合膜為主,這類膜的不足之處在于:抗氧化性差,氧化性物質能導致膜聚合物分解,而活性炭恰恰對水中余氯、過氧水等氧化性物質有良好的去除效果。因此,在超大規(guī)模集成電路超純水制備的預處理系統(tǒng)中采用活性炭處理單元是十分必要的。一次純水處理系統(tǒng)的目的是對預處理系統(tǒng)的出水進一步進行處理,代表性的裝置有反滲透、混合離子交換、一級膜脫氣、EDI(電再生脫鹽)、UV(紫外線)、一級拋光等。其中,反滲透、UV進一步去除一次純水處理系統(tǒng)下來的TOC;混合離子交換既可去除一次純水處理系統(tǒng)下來的TOC,也可去除SiO2;利用膜脫氣對預處理水中的溶解氧進行處理;一級拋光采用高純樹脂,用來處理金屬離子。
 超純水制取系統(tǒng)是為了去除一次純水處理系統(tǒng)中殘留的微量雜質而設置的,值得注意的是,超純水制取系統(tǒng)在去除水中各種雜質的同時,如何保證去除設備因自身材質而引起的污染應引起人們的高度關注。也就是說,一個完整的超純水系統(tǒng),不但要有合理的制水流程,而且還要對每個處理設備自身的微量溶出問題進行研究。此外,超純水的輸送方法,配管、閥門材質的選定也應引起人們的高度重視。
 超大規(guī)模集成電路清洗設備要求的水質幾乎均為超純水,這些清洗設備用水點的排水幾乎全部可以回收,經回收處理后的水一部分可以作為冷卻塔和廢氣洗滌塔的補水,另一部分可以與超純水制備預處理系統(tǒng)的出水一起進入預處理水池,作為超純水制備的補充水。目前,在實際工程中,水的回收率可以達到70%。要使回收水系統(tǒng)達到良好的處理效果,除了需要確定合理的處理流程外,生產設備排水的分類收集也是非常重要的,這樣做,可以防止高濃度TOC和其他不純物質進入回收水系統(tǒng)。

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