型號:BA-GHX1光化學(xué)反應(yīng)器教程光化學(xué)反應(yīng)儀器價格
多功能控溫光化學(xué)反應(yīng)儀:主要是針對實驗可以支持多種光催化實驗要求,滿足可做大容量單一樣品和小容量多試管樣品實驗!光化學(xué)反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品,測定反應(yīng)動力學(xué)常數(shù),測定量子產(chǎn)率等功能,廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。
光化學(xué)反應(yīng)器教程應(yīng)用范圍
多功能控溫光化學(xué)反應(yīng)儀廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域
主要特征
1、智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實時變化;
2、光源控制器,內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器,功率連續(xù)可調(diào),穩(wěn)定性高;
3、多功能控溫光化學(xué)反應(yīng)儀具有分步定時功能,操作簡便;
4、反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料,且?guī)в杏^察窗,方便觀察;
5、采用內(nèi)照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質(zhì),持久耐用;
6、配有大功率磁力攪拌裝置,使樣品充分混勻受光,可以好在光環(huán)境下催化反應(yīng);
7、雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度;
8、高溫度保護系統(tǒng),自動斷電功能;
9、機箱外部結(jié)構(gòu)設(shè)有循環(huán)水進,內(nèi)部設(shè)有2個插座,供燈源和攪拌反應(yīng)器用。
技術(shù)參數(shù)
光化學(xué)室反應(yīng)器(一) 光化學(xué)反應(yīng)儀一體式主機:控制主機+反應(yīng)暗箱+光源控制器
1. 光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。
2. 集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。
3. 汞燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
4. 氙燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
5. 金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。
(二)八位磁力攪拌裝置
1. 石英試管規(guī)格:30ml、50ml(或定做)。
2. 可同時處理8個樣品(或定做)。
3. 八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個樣品的攪拌速度。
(三)大容量磁力攪拌裝置(反應(yīng)裝置)
1. 裝置內(nèi)的大容量玻璃反應(yīng)釜1只 可選250ml、500ml、1000ml(或定做)。
2. 大容量磁力攪拌裝置使樣品充分混勻受光催化。
(四)光化學(xué)低溫恒溫槽
冷卻水循環(huán)裝置制冷量:>1000W
控溫范圍:-5°C到100°C
冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥。配置單 | 數(shù)量 |
一體式光化學(xué)主機 | 1臺 |
雙層石英冷阱250ml | 1個 |
光化學(xué)低溫恒溫槽 | 1臺 |
汞燈(1000W) | 1支 |
氙燈(1000W) | 1支 |
金鹵燈(500W) | 1支 |
八位磁力攪拌裝置 | 1套 |
大容量磁力攪拌裝置 | 1套 |
大容量玻璃反應(yīng)釜 | 1只(250ml,500ml,1000ml可選) |
石英試管 | 8只(30ml,50ml規(guī)格2選1) |
新型多元催化光解箱



光化學(xué)反應(yīng)是指由一個原子、分子、自由基或離子吸收一個光子所引發(fā)的化學(xué)反應(yīng)。常用的光化學(xué)反應(yīng)都是利用波長為400納米之下,800納米之上的光波來進行,也即作為不可見光的紫外線和紅外線。
[0003]氧化銦錫(ΙΤ0)是一種透明導(dǎo)電氧化物半導(dǎo)體材料,具有穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì),透光性優(yōu)良、導(dǎo)電能力良好,在太陽能電池、平板顯示、防霜玻璃、節(jié)能建筑窗、航空領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。
[0004]ITO膜在LED外延片上作為透明導(dǎo)電膜的角色,ITO表面的粗糙度對于亮度的提升有明顯的幫助。為了實現(xiàn)該粗糙度,傳統(tǒng)上需要上光阻后蝕刻ΙΤ0,需要經(jīng)過溫度為100°C至600°C的高含量氧氣> lOOsccm)的熱處理后,ITO表面會局部聚積成氧化銦及氧化錫的子顆粒,然后與相應(yīng)的溶劑對氧化銦或/及氧化錫進行蝕刻,以達到粗糙的程度。
[0005]高溫的加熱除了耗能之外,還常常伴隨著加熱后原液揮發(fā)后對身體的危害,不能滿足現(xiàn)代企業(yè)對環(huán)保生產(chǎn)的要求,降低了企業(yè)的競爭力。
光化學(xué)反應(yīng)儀器價格

光化學(xué)室反應(yīng)器