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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 加熱方式 | 硅碳棒 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 1萬-2萬 | 控溫精度 | 1℃ |
| 內(nèi)部尺寸 | 300x200x200mm | 升溫速度（達到最高溫） | 40/min |
| 儀器種類 | 箱式爐 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,生物產(chǎn)業(yè),綜合 |
| 最大功率 | 4000kW | 最高溫度 | 1300℃ |
產(chǎn)品簡介
詳細(xì)介紹
產(chǎn)品簡介：
真空氣氛爐又名無氧退火爐、真空氣氛燒結(jié)爐等 物體在通入定氣體的爐膛內(nèi)進行燒結(jié)的方法。 不同的材料選擇適宜的氣氛燒結(jié)，有助于燒結(jié)過程，提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體（如氬）等各種氣氛。例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結(jié)，透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結(jié)，氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮氣氛燒結(jié)。 有時為保護燒結(jié)調(diào)協(xié)也須在保護氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫，鎢絲爐宜在真空條件下工作。
氣氛爐用途：
真空氣氛爐滿足于不同工藝實驗而殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結(jié)構(gòu)陶瓷的燒結(jié)、玻璃的精密退火與微晶化、晶體的精密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結(jié)、金屬零件淬火及切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產(chǎn)設(shè)備。
真空氣氛燒結(jié)爐原理：
真空氣氛爐是真空技術(shù)與熱處理技術(shù)相結(jié)合的新型熱處理技術(shù)，真空熱處理所處的真空環(huán)境指的是低于個大氣壓的氣氛環(huán)境，包括低真空、中等真空、高真空和超高真空，真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的部和部分在真空狀態(tài)下進行的，真空熱處理可以實現(xiàn)幾乎所有的常規(guī)熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質(zhì)量大大提高。與常規(guī)熱處理相比，真空熱處理的同時，可實現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的果。
真空氣氛爐結(jié)構(gòu)：
一 、電氣部分：電氣部分采用與氣氛爐爐體體化結(jié)構(gòu)，整個電氣元件安裝在爐體底部的側(cè)，結(jié)構(gòu)緊湊、占用空間小。溫控安裝在爐體側(cè)面板上，觀察直觀，調(diào)節(jié)方便，溫控儀具有PID調(diào)節(jié)功能，可自動跟蹤設(shè)定PID值，可任意設(shè)定測量分度密碼，同時具備補償功能，可使?fàn)t膛溫度與顯示值致。
二、爐體部分：爐膛采用莫來石聚輕磚砌筑，爐膛內(nèi)上下用碳化硅棚板，爐內(nèi)溫度是加熱元件在加熱過程中經(jīng)過碳化硅棚板傳導(dǎo)（暗火加熱），溫度更均勻。爐殼密封。為提高該氣氛爐的密封墊的使用壽命在爐門口設(shè)有循環(huán)水冷套以降低密封處的溫度。進氣設(shè)爐膛底部，經(jīng)加熱腔預(yù)熱后分多處進入爐內(nèi)，排氣經(jīng)爐頂后部排出。爐內(nèi)氣氛均勻，減小爐內(nèi)溫差。也就是說，不論是電氣部分還是爐體部分，它們的結(jié)構(gòu)性能都是互相力的，具有統(tǒng)性，也是實現(xiàn)箱式氣氛爐功能的基本！
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