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[供應(yīng)]密真空氣氛爐
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  • 密真空氣氛爐
貨物所在地:
河南鄭州市
產(chǎn)地:
鄭州
更新時(shí)間:
2024-11-16 21:00:07
有效期:
2024年11月16日 -- 2025年5月16日
已獲點(diǎn)擊:
110
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

密真空氣氛爐廣泛用于高校、科研院所、工礦企業(yè)等做粉末、電子、冶金、醫(yī)藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結(jié)和金屬熱處理等實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)理想設(shè)備。

詳細(xì)介紹

適用范圍
本設(shè)備廣泛用于高校、科研院所、工礦企業(yè)等做粉末、電子、冶金、醫(yī)藥、陶瓷、新材料、化工、金屬燒結(jié)和金屬熱處理等實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)理想設(shè)備。 
 密真空氣氛爐真空氣氛系統(tǒng)
真空密封系統(tǒng)采用特種設(shè)計(jì)技術(shù),具有操作安全、方便、真空度高,密封性好,真空保持時(shí)間長(zhǎng),密封采用不銹鋼金屬法蘭及O型耐高溫氟膠圈密封,氣體經(jīng)過(guò)流量計(jì)后由針型閥開(kāi)關(guān)進(jìn)入爐管內(nèi),閥控配有進(jìn)氣閥,排氣、抽真空閥。減壓閥,安全閥,可通多種氣體、氬氣、氮?dú)?、氧氣、氧化碳、氨分解氣等氣體,可充入高壓氣體,氣氛壓力限值0.1MPa,采用*的密封技術(shù),可長(zhǎng)時(shí)間保壓,安全性能好,操作方便。
密真空氣氛爐主要技術(shù)參數(shù):

項(xiàng)  目

單位

有效使用尺寸

有效使用尺寸

有效使用尺寸

有效使用尺寸

爐膛尺寸

   mm

200X150X150

300X200X200

500X300X200

500X500X500

 溫度類別

1000℃、1200℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃

 控制度

±1℃

溫度均勻度

≤1

≤1℃

≤1.5℃

≤2℃

加熱元件

 

根據(jù)溫度而定,采用電阻絲、硅碳棒、硅鉬棒、石墨。

電壓/頻率

 AC/Hz

220/50

380/50

380/50

380/50

設(shè)計(jì)功率

KW

4

10

15

25

溫控方式

 

微電腦智能調(diào)節(jié)技術(shù),具有PID調(diào)節(jié)、全自動(dòng)控制、自整定功能,多段程序編程,并可編制各種升溫、保溫、降溫程序,控溫度高;集成模塊可控硅控制、移相觸發(fā)。

 保護(hù)裝置

獨(dú)立超溫保護(hù)、超壓、超流、漏電、短路等保護(hù),自動(dòng)化程度較高,

主要附件

高溫手套,坩堝鉗,發(fā)熱元件,門(mén)堵,合格證,說(shuō)明書(shū),質(zhì)保書(shū)。

 可選配

無(wú)紙記錄儀,有紙記錄儀,電腦液晶觸摸屏,人機(jī)畫(huà)面
通訊聯(lián)機(jī)功能,多臺(tái)設(shè)備臺(tái)電腦控制,打印與保存數(shù)據(jù),實(shí)現(xiàn)操作簡(jiǎn)單方便,實(shí)時(shí)可查看與保存數(shù)據(jù)。

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