目錄:鄭州科探儀器設(shè)備有限公司>>材料樣品處理>>小型濺射儀>> KT-Z1650PVD小型離子濺射儀鍍膜儀
靶材材質(zhì) | 金 鉑 銅 銀 | 靶材尺寸 | 50mm |
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 1-5萬 |
濺射氣體 | 根據(jù)需求氣體 | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 樣品臺尺寸 | φ50mm |
應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子 |
小型離子濺射儀鍍膜儀
離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。
在磁控濺射中,由于運(yùn)動電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運(yùn)動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)
生螺旋運(yùn)動,其運(yùn)動路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時(shí),經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽極時(shí),已變成低能電子,從而不會使基片過熱。
銀靶材離子濺射儀KT-Z1650PVD鍍膜客戶反饋圖:
小型離子濺射儀鍍膜儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù);
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底) |
樣品臺轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)