磁控濺射 晶圓導(dǎo)電薄膜制作

直流磁控濺射儀是一種非常常見且重要的物理氣相沉積設(shè)備，其核心用途是在各種基片如硅片、玻璃、塑料等表面，鍍上一層薄而均勻的金屬或?qū)щ姳∧ぁ?/p>

它的基本原理是利用磁場(chǎng)將電子束縛在靶材（陰極）表面附近，增加了電子與工作氣體（通常是氬氣）原子的碰撞幾率，從而產(chǎn)生高密度的等離子體。高密度的等離子體使得濺射效率大大提高，可以在較低的工作氣壓和電壓下實(shí)現(xiàn)高速率的鍍膜?？梢栽诠杈A上沉積金屬薄膜，用于制作芯片內(nèi)部的互連線、晶體管的柵極、接觸墊等，也可以 為 MEMS 器件制作結(jié)構(gòu)層、導(dǎo)電層和犧牲層。