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日本EHC 平行光曝光系統(tǒng)HTE-510-EHC

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更新時間:2024-03-28 13:55:39瀏覽次數(shù):931

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產(chǎn)品簡介

應(yīng)用領(lǐng)域 化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子 工作尺寸 150毫米×150毫米,厚度約0.1?-?1.0毫米
日本EHC 平行光曝光系統(tǒng)HTE-510-EHC
平行光曝光系統(tǒng)
設(shè)計緊湊的平行光曝光系統(tǒng)。

詳細介紹

日本EHC 平行光曝光系統(tǒng)HTE-510-EHC

平行光曝光系統(tǒng)

設(shè)計緊湊的平行光曝光系統(tǒng)。

這種準(zhǔn)直鏡式平行光曝光系統(tǒng)使用一個超高壓汞燈作為點光源。 主要部件由光源、吸式曝光臺和面罩單元組成,曝光方式可以是真空接觸(硬接觸)曝光方式。 也可根據(jù)要求提供接近系統(tǒng)。

對于曝光控制,安裝了一個集成的測光表,以方便設(shè)置正確的曝光量。

基本信息

日本EHC 平行光曝光系統(tǒng)HTE-510-EHC

基本規(guī)格。

工件尺寸:150毫米×150毫米,厚度約0.1 - 1.0毫米

光學(xué)性能:超高壓汞燈1KW(風(fēng)冷),波長約300-470納米(主波長365、405、436納米)。

紫外線照度約為40 mw/cm^2的初始值(@365 nm),照度分布為90% min。

射線平行度:準(zhǔn)直半角≤1.5°,傾角≤1.0°。

曝光快門:用空氣驅(qū)動的快門打開/關(guān)閉

曝光控制:取決于集成測光表(控制波長為365納米),20通道記憶

面罩(基本): □8英寸玻璃面罩,3.0毫米或5.0毫米厚

曝光臺:吸氣臺,前/后可移動,內(nèi)置真空泵

上層框架類型:專用玻璃罩框架或麥拉框架

公用設(shè)施:電源3相200V 50/60 Hz,斷路器開關(guān)30A,10.5KVA

       壓力空氣約0.5 Mpa

       廢氣:約8 m^3/min

外部尺寸:(W)800mmx(D)1470mmx(H)1915mm



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