日本EHC 自動(dòng)轉(zhuǎn)印顯影機(jī)ACT-300A2

日本EHC 自動(dòng)轉(zhuǎn)印顯影機(jī)ACT-300A2
緊湊型自動(dòng)轉(zhuǎn)印顯影機(jī)。
ACT-300A2S自動(dòng)轉(zhuǎn)印型顯影機(jī)在旋轉(zhuǎn)6英寸以下的基材時(shí)進(jìn)行噴霧顯影。
它配備了兩套顯影液系統(tǒng)、一套沖洗系統(tǒng)和一把氣刀，配方設(shè)置操作可通過觸摸屏進(jìn)行，可實(shí)現(xiàn)多達(dá)25種基質(zhì)的自動(dòng)顯影。

日本EHC 自動(dòng)轉(zhuǎn)印顯影機(jī)ACT-300A2

緊湊型自動(dòng)轉(zhuǎn)印顯影機(jī)。

ACT-300A2S自動(dòng)轉(zhuǎn)印型顯影機(jī)在旋轉(zhuǎn)6英寸以下的基材時(shí)進(jìn)行噴霧顯影。

它配備了兩套顯影液系統(tǒng)、一套沖洗系統(tǒng)和一把氣刀，配方設(shè)置操作可通過觸摸屏進(jìn)行，可實(shí)現(xiàn)多達(dá)25種基質(zhì)的自動(dòng)顯影。

也可提供無自動(dòng)處理的單晶片類型。

日本EHC 自動(dòng)轉(zhuǎn)印顯影機(jī)ACT-300A2

主要規(guī)格。

處理能力：可連續(xù)處理25張6英寸以下的圓形基材。

流程：顯影劑：2個(gè)系統(tǒng)，漂洗：1個(gè)系統(tǒng)，氣刀：1個(gè)系統(tǒng)。　

使用的化學(xué)品：堿性顯影劑，去離子清洗水。

處理能力 多達(dá)25個(gè)6英寸的圓形基片（專用盒式存儲(chǔ)型）。

過程開發(fā)者2系統(tǒng)（噴嘴可互換）。

　　　　　　　　1個(gè)漂洗系統(tǒng) 1個(gè)氣刀系統(tǒng)

使用的化學(xué)品 堿性顯影劑 去離子清洗水

轉(zhuǎn)移機(jī)器人Tatsumo定心臺(tái)，用于準(zhǔn)確定位基片。

可以注冊(cè)10個(gè)步驟x50個(gè)模式的食譜。

以0.1秒為增量的處理時(shí)間設(shè)置

板速交流伺服電機(jī)控制的　0-3000 rpm 精度±2 轉(zhuǎn)速以內(nèi)

設(shè)備尺寸 W1120 x D920 x 高1950毫米，zui大50 0公斤或以下

控制系統(tǒng)8英寸觸摸面板操作

吸水臺(tái) 白色特氟隆，真空孔吸水式

罐體容量為18L，與機(jī)體分離，通過稱重傳感器檢測(cè)殘余液位。

顯影液控制溫度20-30°C ± 3°C

公用事業(yè) 3相200V/30A 1個(gè)漏電斷路器

內(nèi)置真空泵

空氣0.5兆帕

氮?dú)?0.3 MPa

排氣管 2個(gè)排氣系統(tǒng)（電動(dòng)排氣管、杯式排氣管），?75 mm

顯影液廢液    收集在聚乙烯罐中或與工廠廢物相連