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供貨周期 | 現(xiàn)貨 | 規(guī)格 | 1230*500*400 |
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貨號 | 7854 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,農(nóng)業(yè),地礦,綜合 |
主要用途 | 廣泛 |
步高石墨TM石墨工藝品3D熱彎玻璃石墨模具
用于原子能工業(yè)和國防工業(yè):石墨具有良好的中子減速劑用于原子反應(yīng)堆中,鈾一石墨反應(yīng)堆是應(yīng)用較多的一種原子反應(yīng)堆。作為動(dòng)力用的原子能反應(yīng)堆中的減速材料應(yīng)當(dāng)具有高熔點(diǎn),穩(wěn)定,耐腐蝕的性能,石墨可以滿足上述要求。作為原子反應(yīng)堆用的石墨純度要求很高,雜質(zhì)含量不應(yīng)超過幾十個(gè)PPM。特別是其中硼含量應(yīng)少于0.5PPM。在國防工業(yè)中還用石墨制造固體燃料的石墨噴嘴,石墨鼻錐,宇宙航行設(shè)備的零件,隔熱材料和防射線材料。
石墨爐原子吸收光譜法是一種運(yùn)用有石墨涂層的的熔爐,使樣本蒸發(fā)的光譜測定法。簡而言之,這項(xiàng)技術(shù)是基于這樣一個(gè)事實(shí),即自由原子可以吸收一定頻率的光和帶有特殊利益元素的波長。在一定范圍內(nèi),被吸收的光波可以直接與所要分析的的物體聯(lián)系起來。許多元素的自由原子可以用高溫從樣本中提取。在石墨爐原子吸收光譜法中,樣本儲存在有石墨或熱解碳涂層的小石墨立方體中,這個(gè)立方體將來可以通過加熱來使樣本蒸發(fā)和分解過程。我們可以根據(jù)已知的濃度來校正儀器,從而通過工作曲線來決定濃縮程度。和原子吸附相比,石墨爐主要有有以下優(yōu)勢:
對于許多元素來說,石墨爐探測范圍可達(dá)十億分之一;
采用改良型設(shè)備,阻礙降至??;
通過原子吸收大量基質(zhì),石墨爐可以探測絕大多數(shù)已知元素。
石墨具有較高的散射截面和極低的熱中子吸收截面,較高的散射截面用以慢化中子,低的吸收截面防止中子被吸收,使得核反應(yīng)堆能夠利用少量燃料達(dá)到臨界或正常運(yùn)行。
石墨是耐高溫材料,它的三相點(diǎn),15MPa時(shí)為4024℃,因此不能采用熔化、鑄造、鍛造等熱加工方法制造而只能采用類似粉末冶金的方法。它不像金屬那樣強(qiáng)度隨溫度而下降,而是略有增加,在2000℃以下應(yīng)用,不會出現(xiàn)問題。
石墨有良好的導(dǎo)熱性能,在堆內(nèi)可以有效地降低溫度梯度,不致產(chǎn)生太大的熱應(yīng)力。
石墨化學(xué)性質(zhì)非常穩(wěn)定。除了高溫下的氧化、水蒸氣外,可以耐酸、堿、鹽的腐蝕,因而可以用作熔鹽核反應(yīng)堆和鈾鉍核反應(yīng)堆的堆芯構(gòu)件。
石墨抗輻照性能好,能長期在堆內(nèi)服役30~40年。
石墨可加工性好,可以加工成各種形狀的構(gòu)件。
石墨原料豐富,價(jià)格便宜,容易制成純度高、強(qiáng)度大、不同密度要求的各種核石墨,但石墨也有缺點(diǎn),它是各向異性晶體結(jié)構(gòu),成層狀分布,原子密集于a、b晶面,同層原子近距離為0.141nm,相互為共價(jià)結(jié)合,具有較強(qiáng)的結(jié)合力;而層距離為0.335nm,層間結(jié)合力為范德瓦爾力,結(jié)合力較弱。這種各向異性在石墨的物理、強(qiáng)度、輻照等行為中都會強(qiáng)烈地表現(xiàn)出來。
步高石墨TM石墨工藝品3D熱彎玻璃石墨模具
標(biāo)準(zhǔn)尺寸:120*310*470mm
用途:適合用在同時(shí)需要高級的精度,邊緣部分的低消耗和微細(xì)加工特性的超精密加工時(shí),這是高等級
優(yōu)良的機(jī)加工性能和超精密的EDM加工表面光潔度,這兩項(xiàng)性能同時(shí)具有的材料就是Tokai的HK-6. 它進(jìn)一步拓展石墨的加工可能性.
物理參數(shù)如下:
密度: 1.86g/cm2
電阻率: 12μΩm
抗折強(qiáng)度: 85Mpa
硬度(肖氏): 68
平均粒度: 3μm
表面光潔度: 0.63Raμm
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)