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氨逃逸有哪些危害

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào) TK-1100
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 濟(jì)南市
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更新時(shí)間:2024/10/13 19:08:48瀏覽次數(shù):792

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,石油,建材,冶金
氨逃逸有哪些危害
TK-1100型氨逃逸在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)采用高溫伴熱抽取技術(shù),對(duì)脫硝過程中的逃逸氨進(jìn)行連續(xù)在線監(jiān)測(cè),系統(tǒng)由取樣及傳輸單元、預(yù)處理及控制單元、分析單元三部分構(gòu)成,主要應(yīng)用于眾多工業(yè)領(lǐng)域氣體排放監(jiān)測(cè)和過程控制,例如:燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠、玻璃廠等。

詳細(xì)介紹

氨逃逸有哪些危害

一、產(chǎn)品概述(煙氣氨逃逸在線監(jiān)測(cè)分析儀系統(tǒng)(高溫抽取激光))

    脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(TK-1100型)是由我公司榮譽(yù)出品,本系統(tǒng)包括預(yù)處理系統(tǒng)、氣體分析儀和數(shù)據(jù)處理與顯示三大部分。本系統(tǒng)取樣方式為在位式高溫伴熱抽取。本系統(tǒng)基本原理是基于紫外差分吸收光譜(DOAS)技術(shù)及可調(diào)諧半導(dǎo)體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù);紫外差分吸收光譜技術(shù)原理為,同種氣體在不同光譜波段有不同的吸收,不同氣體在同一光譜波段的吸收疊加作用,通過對(duì)連續(xù)光譜做算法分析,可同時(shí)測(cè)量多種氣體,有效避免各組分相互干擾;激光光譜氣體分析技術(shù)已經(jīng)廣泛應(yīng)用到對(duì)于靈敏度、響應(yīng)時(shí)間、背景氣體免干擾等有較高要求的各種氣體監(jiān)測(cè)領(lǐng)域。

    本公司生產(chǎn)的脫硝氨逃逸一體化在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)(TK-1100型)耐用且易于安裝,特別適用于眾多環(huán)保及工業(yè)過程氣體排放監(jiān)測(cè),包括燃煤發(fā)電廠、鋁廠、鋼鐵廠、冶煉廠、垃圾發(fā)電站、水泥廠和化工廠等。

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二、氨逃逸形成及危害

2.1 氨逃逸的形成

   在大規(guī)模燃燒礦物燃料的領(lǐng)域,例如燃煤發(fā)電廠,都安裝了前燃(pre-combustion)或后燃(post combustion)NOX 控制技術(shù)的脫硝裝置,后燃NOX 控制技術(shù)可以是選擇性催化還原法(SCR) 也可以是選擇性非催化還原法(SNCR),但是無論應(yīng)用哪種方法,基本原理都是一樣的,即都是通過往反應(yīng)器內(nèi)注入氨與氮氧化物發(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生水和N2。注入的氨可以直接以NH3 的形式,也可以先通過尿素分解釋放得到NH3 再注入的形式,無論何種形式,控制好氨的注入總量和氨在反應(yīng)區(qū)的空間分布便可以的降低NOX 排放。

    氨注入的過少,就會(huì)降低還原轉(zhuǎn)化效率,氨注入的過量,不但不能減少NOX 排放,反而因?yàn)檫^量的氨導(dǎo)致NH3 逃逸出反應(yīng)區(qū),逃逸的NH3 會(huì)與工藝流程中產(chǎn)生的硫酸鹽發(fā)生反應(yīng)生成硫酸銨鹽,且主要都是重硫酸銨鹽。銨鹽會(huì)在鍋爐尾部煙道下游固體部件表面上沉淀,例如沉淀在空氣預(yù)熱器扇面上,會(huì)造成嚴(yán)重的設(shè)備腐蝕,并因此帶來昂貴的維護(hù)費(fèi)用。在反應(yīng)區(qū)注入的氨分布情況與NO和NO2 的分布不匹配時(shí)也會(huì)出現(xiàn)氨逃逸現(xiàn)象,高氨量逃逸的情況伴隨著NOX 轉(zhuǎn)化效率降低是一種非常糟糕的現(xiàn)象和很嚴(yán)重的問題。

 2.2氨逃逸的危害

(1)逃逸掉的氨氣造成資金的浪費(fèi),環(huán)境污染;

(2)氨逃逸將腐蝕催化劑模塊,造成催化劑失活(即失效)和堵塞,大大縮短催化劑壽命;

(3)逃逸的氨氣,會(huì)與空氣中的SO3生成硫酸氨鹽(具有腐蝕性和粘結(jié)性)使位于脫銷下游的空預(yù)器蓄熱原件堵塞與腐蝕;

(4)過量的逃逸氨會(huì)被飛灰吸收,導(dǎo)致加氣塊(灰磚)無法銷售;

三、規(guī)格與技術(shù)參數(shù)

 指標(biāo)

測(cè)量范圍

0-10.0ppm,0-50.0ppm 可根據(jù)用戶需求設(shè)定

響應(yīng)時(shí)間

<20s

線性誤差

<1%F.S

零點(diǎn)漂移

可忽略

重復(fù)性

1%F.S

標(biāo)定

出廠時(shí)已標(biāo)定,無需定期標(biāo)定

輸入和輸出信號(hào)

模擬量輸出

4-20mA電流環(huán),750ΩMax,隔離

報(bào)警輸出

濃度超限、溫度異常、系統(tǒng)故障均報(bào)警

繼電器輸出

2路(可擴(kuò)展),觸點(diǎn)負(fù)載24V,2A

通訊接口

RS485,雙端隔離

工作條件

環(huán)境溫度

(-20)~50℃

保護(hù)等級(jí)

IP54

工作電壓

200V-240VAC,50Hz

電源功耗

≤3000W

預(yù)熱時(shí)間

1小時(shí)

伴熱溫度

180℃~240℃

 

采樣流量

2~20L/min(可根據(jù)用戶需求定制)

尺寸

機(jī)柜

1000×1200×600mm(默認(rèn)尺寸)

四、氨逃逸系統(tǒng)流路簡(jiǎn)介

    本系統(tǒng)的流路主要由測(cè)量流路、反吹流路、標(biāo)定流路及渦旋制冷流路組成,具體流路示意圖如下:

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    系統(tǒng)進(jìn)入測(cè)量狀態(tài)后,電動(dòng)執(zhí)行機(jī)構(gòu)帶動(dòng)兩通球閥切換到采樣氣路,在引流泵的作用下,被測(cè)氣體經(jīng)由探頭桿、,兩通球閥、二級(jí)過濾器進(jìn)入NH3模塊,NH3模塊利用吸收技術(shù)(TDLAS)對(duì)氣體進(jìn)行分析,得到NH3的濃度(高溫?zé)釢穹ǎ笈趴铡?/p>

    系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入校準(zhǔn)狀態(tài)進(jìn)行自動(dòng)調(diào)零,此時(shí)兩通球閥切換到校準(zhǔn)氣路,校準(zhǔn)電磁閥打開,在引流泵的作用下,環(huán)境空氣經(jīng)過濾器、校準(zhǔn)電磁閥后進(jìn)入氣體室,對(duì)氣體室中殘留的被測(cè)氣體進(jìn)行吹掃,吹掃干凈后,對(duì)NH3進(jìn)行一次調(diào)零;系統(tǒng)定時(shí)會(huì)進(jìn)入反吹狀態(tài)對(duì)采樣探頭進(jìn)行反吹,此時(shí)兩通球閥切換到反吹氣路,反吹電磁閥打開,系統(tǒng)自動(dòng)控制反吹電磁閥開或關(guān),實(shí)現(xiàn)對(duì)探頭過濾器的反吹。

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