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貨物所在地：廣東深圳市
所在地： 廣東深圳
更新時間：2024-09-30 21:00:07
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nanoArch P130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)是科研級3D打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
| 光源 UV-LED(405nm) | 打印材料 光敏樹脂 | 光學精度 2μm |
| XY打印精度 2μm~10μm | 打印層厚 5μm~20μm | 打印樣品尺寸 3.84mm(L)×2.16mm(W)×10mm(H)① |
| 打印文件格式 STL | 系統(tǒng)外形尺寸 1720mm(L)×750mm(W)×1820(H)mm3 | 重量 650kg |
| 電氣要求 200~240V AC，50/60HZ，3KW | 其他要求 部分工藝可選配加速模塊及涂層模塊 | 設(shè)備功率 2000W |
注：①、樣品高度典型2mm，最高10mm
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫(yī)用樹脂等。
應(yīng)用領(lǐng)域：
nanoArch P130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)可廣泛應(yīng)用于力學超材料、生物醫(yī)療、微機械結(jié)構(gòu)、微流控、三維復(fù)雜仿生結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域
企業(yè)簡介：
摩方精密（BMF,Boston Micro Fabrication）是全球微尺度3D打印技術(shù)及精密加工能力解決方案提供商。專注于精密器件免除模具一次成型能力的研發(fā)，提供制造復(fù)雜三維微納結(jié)構(gòu)技術(shù)解決方案，同時，可結(jié)合不同材料及工藝，實現(xiàn)終端產(chǎn)品高效、低成本批量化生成及銷售。
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