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技術(shù)文章

japansensor溫度計在硅單晶上拉裝置溫度控制上的運用

閱讀:863          發(fā)布時間:2023-3-15

japansensor溫度計在硅單晶上拉裝置溫度控制上的運用

在坩堝中熔化多晶硅時的溫度控制,以及晶種后旋轉(zhuǎn)時的溫度控制。

從提升設(shè)備的視口進行溫度測量。

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客戶的要求

我們希望通過準(zhǔn)確捕獲熔化溫度來捕獲晶體起始點。

在許多情況下,測量距離相對較長,但目標(biāo)尺寸需要相當(dāng)小。 換句話說,需要長距離和小光斑類型。

由于環(huán)境溫度很高,因此耐熱溫度高就更好了。

客戶的要求

我們希望通過準(zhǔn)確捕獲熔化溫度來捕獲晶體起始點。

在許多情況下,測量距離相對較長,但目標(biāo)尺寸需要相當(dāng)小。 換句話說,需要長距離和小光斑類型。

由于環(huán)境溫度很高,因此耐熱溫度高就更好了。

相關(guān)產(chǎn)品運用

  • 1ms光纖型半階型,可在惡劣環(huán)境和狹窄空間內(nèi)自由使用

  • 光纖型輻射溫度計FTKX系列

    測量溫度范圍:100°C ~ 2000°C

    • 纖維類型(耐熱性和耐磁場性)

    • 高溫

    • 用于石英

    • 0.1ms/1ms快速響應(yīng)

    • 用于金屬

  • 1ms輻射溫度計,其規(guī)格可根據(jù)要測量的對象而改變

    無纖型輻射溫度計FLHX系列

    測量溫度范圍:90°C ~ 2000°C

    • 高溫

    • 用于石英

    • 0.1ms/1ms快速響應(yīng)

    • 用于金屬


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