虹科 ALE/1C光刻UV-LED曝光系統(tǒng)是一種用于多用途工業(yè)應用的高強度非相干點光源。 它基于 UV-LED 技術，與傳統(tǒng)的高壓汞放電燈相比具有多種優(yōu)勢，例如降低功耗和發(fā)熱、延長使用壽命以及減少整體設置維護。

ALE/1C – UV-LED 曝光系統(tǒng)建立在平臺概念之上，在其光路中最多可組合三個 UV-LED 發(fā)射器。 這些光源通常用于光刻工藝(半導體制造)和工業(yè)光固化應用。

●內置實現(xiàn)高效率和性能

●無汞設計，未來可持續(xù)

實現(xiàn)最佳OEM集成的分段設計配置

ALE/1C 光源遵循分布式設計方法，通常由一個控制子系統(tǒng) (CSS) 和一個或多個獨立的曝光子系統(tǒng) (ESS) 組成，非常緊湊，但功能極其強大：我們的 UV-LED 曝光頭的這種設計原理實現(xiàn)輕松直接集成到您的設備中。 此曝光子系統(tǒng)發(fā)出的光可以與各種可用的光管、光導和其它(定制的)光學器件結合使用。

控制子系統(tǒng)(CSS)

有兩個版本的 CSS 可用：獨立單元和 4U 19″ 機架安裝單元。 兩個 ALE/1C CSS 版本都具有相同的控制接口、冷卻系統(tǒng)連接器和系統(tǒng)狀態(tài)指示燈。 此外，機架安裝版本在前面提供了一個曝光測試鑰匙開關，無需外部控制信號即可激活光輸出。

曝光子系統(tǒng)(ESS)

ALE/1C 光引擎是光管耦合點光源。 該系統(tǒng)具有緊湊的曝光子系統(tǒng) (ESS)，可以輕松集成到您現(xiàn)有的設備(改裝)或新設計中。 這個 UV-LED 光引擎連接到一個單獨的控制子系統(tǒng) (CSS)，提供控制和驅動固態(tài)發(fā)射器以及所有必需的光學組件所需的所有硬件和軟件。

出光選擇與光學元件

我們提供一系列可與 ALE/1C ESS 結合使用的柔性液態(tài)光導、光管、勻化器和聚光光學器件。 如果您需要遠距離傳輸高功率輻射、提高均勻性或想要調整輸出輻射的準直角，這些組件特別有用。 請查看我們的光學優(yōu)化頁面了解更多信息。

標準光刻配置：365 nm, 405 nm, 435nm

我們的標準 ALE/1C 設置將 UV-LED 發(fā)射器與汞光譜的 i、h 和 g 線 (365 / 405 / 435 nm) 附近的峰值波長相結合。 無論您是想在不更換濾光片的情況下切換波長、自定義輸出光譜的組成，還是想利用非常強烈的寬帶曝光，我們的 ALE/1C 都能為您提供 350 至 450 光譜范圍內的最高 UV-LED 輻射輸出

我們的 ALE/1C 的總輸出功率高達 40 W 或在冷卻回路中添加外部冷卻器時高達 50 W。

ALE/1C 光刻UV-LED曝光系統(tǒng)的光譜組成有多種選擇。 最多可組合 3 個 LED 模塊：

• 近紫外（365、385、405、435 nm）、

• 可見光（470、520、620、660、690 nm）

• NIR-LED （730、770、810、850、970 nm）