廣東硅晶片清洗超純水設(shè)備供應(yīng)商

廣東硅晶片清洗超純水設(shè)備供應(yīng)商

清洗根據(jù)清洗范圍的不同，可以分為民用清洗和工業(yè)清洗，在工業(yè)生產(chǎn)中涉及到的清洗都屬于工業(yè)基礎(chǔ)清洗的范疇。硅晶片清洗用超純水設(shè)備采用*的水處理工程技術(shù)，產(chǎn)品的質(zhì)量與性能均是被同行認(rèn)可的，產(chǎn)品的市場(chǎng)前景非常廣闊。

廣東硅晶片清洗超純水設(shè)備供應(yīng)商

　　硅晶片清洗用超純水設(shè)備工作原理

　　1、水進(jìn)入EDI系統(tǒng)，主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部，而另一部分沿模板外側(cè)流動(dòng)，以洗去透出膜外的離子。

　　2、樹脂截留水中的溶存離子。

　　3、被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運(yùn)動(dòng)，陽(yáng)離子向負(fù)極方向運(yùn)動(dòng)。

　　4、陽(yáng)離子透過(guò)陽(yáng)離子膜，排出樹脂/膜之外。

　　5、陰離子透過(guò)陰離子膜，排出樹脂/膜之外。

　　6、濃縮了的離子從廢水流路中排出。

　　7、無(wú)離子水從樹脂/膜內(nèi)流出。

　　硅晶片清洗用超純水設(shè)備各部件說(shuō)明

　　1、自來(lái)水箱：主要解決自來(lái)水壓力不穩(wěn)定的問(wèn)題，減少提升泵在運(yùn)行過(guò)程中頻繁啟動(dòng)或受自來(lái)水壓力不穩(wěn)定帶來(lái)的機(jī)械故障。

　　2、石英砂過(guò)濾器：自來(lái)水從罐體上端進(jìn)入，經(jīng)過(guò)上布水器均勻從濾層上端流向下端。自來(lái)水經(jīng)過(guò)濾層后通過(guò)下布水器脫離濾層，形成過(guò)濾水。

　　3、活性炭過(guò)濾器：活性炭過(guò)濾器內(nèi)部結(jié)構(gòu)成石英砂過(guò)濾器*一樣。經(jīng)過(guò)活性炭吸附后自來(lái)水的余氯一般可降到0.1mg/l以下。

　　4、軟水器：去除水中的鈣鎂離子，降低水的硬度，為EDI進(jìn)水創(chuàng)造條件。

　　5、精密過(guò)濾器：主要使用5us的熔噴濾芯，可除去細(xì)小的顆粒，進(jìn)一步為反滲透進(jìn)水創(chuàng)造條件。

　　6、高壓泵：為反滲透運(yùn)行提供需要的動(dòng)力。

　　7、反滲透系統(tǒng)：反滲透系統(tǒng)是設(shè)備的核心部件，在反滲透的設(shè)計(jì)上主要考濾膜元件的數(shù)量、品牌、排列三大問(wèn)題。

　　硅晶片清洗用超純水設(shè)備安置有反滲透預(yù)脫鹽技術(shù)，從根本上保障了設(shè)備的出水水質(zhì)。同時(shí)，廢水產(chǎn)出量少，不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染，有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟(jì)效益，其發(fā)展前景廣闊。

應(yīng)用領(lǐng)域：

1、電子、電力、電鍍、照明電器、實(shí)驗(yàn)室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗(yàn)、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域。

2、化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品等用純水。

3.單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。

4.食品工業(yè)用水:飲用純凈水、礦泉水、資料、啤酒、乳業(yè)等。

5.海水、苦咸水淡化：海島、艦船、高鹽堿地區(qū)生活用水改善。

6.樓宇、社區(qū)優(yōu)質(zhì)供水:星級(jí)賓館、機(jī)場(chǎng)、房產(chǎn)物業(yè)純水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)等。