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Nat. Mater.:數(shù)據(jù)驅(qū)動的金屬非晶態(tài)形成能力通用指標的發(fā)現(xiàn)

閱讀:858        發(fā)布時間:2023/6/8
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主要內(nèi)容

此篇文章中,中國科學院物理研究所和美國耶魯大學的研究人員開展合作研究,研究團隊在前期工作的基礎上,打通了非晶合金高通量實驗和實驗數(shù)據(jù)自動分析的關鍵環(huán)節(jié),實現(xiàn)了非晶合金新材料的高通量、流程化研發(fā)?;谠撗邪l(fā)模式,團隊采集分析了5700余種合金的X射線衍射(XRD)圖譜,發(fā)現(xiàn)XRD第一峰的峰寬(Δq)在同一合金體系內(nèi)隨成分的改變呈規(guī)律性變化,合金的非晶形成能力與Δq有明顯關聯(lián),寬的Δq對應強的非晶形成能力。利用Δq和GFA的關聯(lián)(Δq-GFA判據(jù)),該團隊在以往未被報道的Zr-Cu-Cr和Ir-Co-Ta合金體系中發(fā)現(xiàn)了非晶形成能力強、能夠形成塊體的非晶合金新材料,證明Δq-GFA判據(jù)是指導非晶合金新材料高效研發(fā)的有利工具。

該研究成果不僅為探索非晶合金新材料提供了便捷、實用、高效的新判據(jù),可大幅提高研發(fā)非晶合金新材料的效率(和傳統(tǒng)的“試錯法"相比,效率提高200多倍;和以往的高通量實驗方法相比,效率提高100倍),而且改變了傳統(tǒng)認為的特定團簇出現(xiàn)越多非晶形成能力越強的研究結(jié)論,為認識非晶形成機理給出了新的方向。

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其中由巨力光電代理的 kSA MOS UltraScan離線薄膜應力測量系統(tǒng) 為該研究提供了精確的曲率和薄膜殘余應力的測量

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產(chǎn)品推薦

kSA MOS UltraScan 離線薄膜應力測量系統(tǒng) 采用非接觸 MOS(多光束光學傳感) 激光技術;不但可以對薄膜的應力、表面曲率和翹曲進行準確的測量,還可二維應力 Mapping成像統(tǒng)計分析;同時準確測量應力、曲率隨溫度變化的關系。


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文獻信息

Data-driven discovery of a universal indicator for metallic glass forming ability

Ming-Xing Li, Yi-Tao Sun, Chao Wang, Li-Wei Hu, Sungwoo Sohn, Jan Schroers, Wei-Hua Wang & Yan-Hui Liu


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