上海雅恩斯機(jī)電設(shè)備有限公司
中級會(huì)員 | 第4年

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海德漢敞開式直線光柵尺系列應(yīng)用

時(shí)間:2021/8/6閱讀:1173
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海德漢開式直線光柵尺

敞開式直線光柵尺設(shè)計(jì)用于對測量精度要求*的機(jī)床和系統(tǒng)。

典型應(yīng)用包括:

  • 半導(dǎo)體業(yè)的測量和生產(chǎn)設(shè)備

  • PCB電路板組裝機(jī)

  • 超高精度機(jī)床

  • 高精度機(jī)床

  • 測量機(jī)和比較儀,測量顯微鏡和其它精密測量設(shè)備

  • 直驅(qū)電機(jī)

絕對式編碼器

系列說明
LICLIC敞開式直線光柵尺能夠?qū)π谐踢_(dá)28 m和高速運(yùn)動(dòng)進(jìn)行絕對位置測量。其尺寸和安裝方式與LIDA 400相同。

輸出位置值的編碼器

系列說明
LIP 200LIP 211和LIP 291增量式直線光柵尺輸出位置值的位置信息。正弦掃描信號在讀數(shù)頭中被高倍頻細(xì)分且其計(jì)數(shù)功能將細(xì)分的信號轉(zhuǎn)換成位置值。與所有增量式編碼器一樣,借助參考點(diǎn)確定絕對原點(diǎn)。

增量式編碼器

系列說明
LIP

超高精度

LIP敞開式直線光柵尺擁有極小的測量步距,*的精度和重復(fù)精度。掃描方式為干涉掃描,測量基準(zhǔn)為DIADUR相位光柵。

LIF

高精度

LIF敞開式直線光柵尺的測量基準(zhǔn)是SUPRADUR工藝制造的玻璃基體光柵,采用干涉掃描方法。特點(diǎn)是精度高和重復(fù)精度高,安裝特別簡單,有限位開關(guān)和回零軌。特殊型號的LIF 481 V可用于10–7 bar的真空環(huán)境中(參見其單獨(dú)“產(chǎn)品信息")。

LIDA

高速運(yùn)動(dòng)和大測量長度

LIDA敞開式直線光柵尺特別適合運(yùn)動(dòng)速度達(dá)10 m/s的高速運(yùn)動(dòng)應(yīng)用,支持多種安裝方式,安裝特別簡單。根據(jù)相應(yīng)應(yīng)用要求,METALLUR光柵的基體可為鋼帶,玻璃或玻璃陶瓷。也有限位開關(guān)。

PP

二維坐標(biāo)測量

PP二維編碼器的測量基準(zhǔn)是平面DIADUR工藝制造的相位光柵,采用干涉掃描方法。用于測量平面中位置。

LIP/LIF

高真空和超高真空技術(shù)

我們的標(biāo)準(zhǔn)編碼器適用于低真空或中等真空應(yīng)用。高真空或超高真空應(yīng)用的光柵尺需要滿足一些特殊要求。采用的設(shè)計(jì)和材質(zhì)必須滿足應(yīng)用要求。更多信息,參見“真空中應(yīng)用的直線光柵尺"產(chǎn)品信息。

以下敞開式直線光柵尺專用于高真空或超高真空應(yīng)用環(huán)境。

• 高真空:LIP 481 V和LIF 481 V 
• 超高真空:LIP 481 U

LIC 4100

型號基線誤差基體和安裝方式細(xì)分誤差測量長度

精度等級局部


LIC 4113
LIC 4193
± 3 μm
± 5 μm

≤ ± 0.275 μm/ 10 mm

玻璃或玻璃陶瓷光柵尺,嵌入在安裝面中

± 20 nm240 mm 3040 mm
LIC 4115
LIC 4195
± 5 μm≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.)鋼帶光柵尺穿入在鋁殼中并預(yù)緊± 20 nm140 mm  28440 mm
LIC 4117
LIC 4197
± 3 μm
± 5 μm
± 15 μm
≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.)鋼帶光柵尺穿入在鋁殼中并固定± 20 nm240 mm  6040 mm
LIC 4119
LIC 4199
± 3 μm
± 15 μm
≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.)鋼帶光柵尺粘貼在安裝面上± 20 nm70 mm  1020 mm
LIC 4119 FS± 3 μm
± 15 μm
≤ ± 0.750 μm/ 50 mm (typ.)鋼帶光柵尺粘貼在安裝面上± 20 nm70 mm  1820 mm



LIC 2100

型號基線誤差基體和安裝方式細(xì)分誤差測量長度

精度等級局部


LIC 2117
LIC 2197
± 15 μm

鋼帶光柵尺穿入在鋁殼中并固定

± 2 μm120 mm  3020 mm
LIC 2119
LIC 2199
± 15 μm
鋼帶光柵尺粘貼在安裝面上± 2 μm120 mm  3020 mm


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